詳細(xì)摘要： DS300 壓力式質(zhì)量流量控制器是針對半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā)的一款適用于半導(dǎo)體裝備的氣體質(zhì)量流量控制器。DS300采用基于壓力原理的流量傳感器技術(shù)和高精度壓電閥控制技術(shù)...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
華兆科技（廣州）有限公司
華兆科技（廣州）有限公司
詳細(xì)摘要： DS300 壓力式質(zhì)量流量控制器是針對半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā)的一款適用于半導(dǎo)體裝備的氣體質(zhì)量流量控制器。DS300采用基于壓力原理的流量傳感器技術(shù)和高精度壓電閥控制技術(shù)...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
詳細(xì)摘要： CS330數(shù)字式質(zhì)量流量計是七星華創(chuàng)流量計研發(fā)的數(shù)字型產(chǎn)品，流量可達(dá)200SLM（氮氣），并可實現(xiàn)數(shù)字/模擬控制模式；產(chǎn)品可用于測量各種氣體的流量，包括惰性氣體...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
詳細(xì)摘要： WS-ALN100150倒片機(jī)中包含1臺6軸機(jī)械手組件，設(shè)備前端設(shè)有6個Loadport工位，每3個對應(yīng)1個腔室。設(shè)有2個Buffer工位，每個Buffer上可...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
詳細(xì)摘要： TAU Series離子微粒吸附設(shè)備在面板生產(chǎn)中主要應(yīng)用于曝光機(jī)設(shè)備，用于去除空氣中可能會降低曝光機(jī)鏡組折射率的有害物質(zhì)。同時具有精確控制溫度和控制濕度的功能。
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
詳細(xì)摘要： Oven設(shè)備是目前TFT產(chǎn)線耗電量較大的設(shè)備，Oven設(shè)備熱排管道排出的是230℃的高溫有機(jī)廢氣（光刻膠升華物），大量的熱能被浪費掉。在排氣管路上安裝熱能回收的...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
詳細(xì)摘要： UVC Series紫外線固化爐外形緊湊，能對應(yīng)G4.5～G10.5范圍內(nèi)的Panel規(guī)格，設(shè)備提供的UV照射光強(qiáng)充足均勻，能準(zhǔn)確量化監(jiān)控，并實現(xiàn)光路照度調(diào)節(jié)閉...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
詳細(xì)摘要： CVI Series裝載卸載設(shè)備是連接工藝設(shè)備（EQ）和智能化物流倉儲系統(tǒng)（STK），使設(shè)備工藝制程順利完成的系統(tǒng)。Indexer由Port和Fence兩部分組...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
詳細(xì)摘要： Hesper TO230R 單片減壓原位濕法氧化系統(tǒng)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研等領(lǐng)域，單腔或多腔多種設(shè)計，可滿足不同客戶需求，低擁有成本和低運(yùn)營...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-31 在線留言
詳細(xì)摘要： Booster SWA單片退火系統(tǒng)主要用于12英寸后段金屬互聯(lián)退火工藝。該機(jī)臺為多腔集群設(shè)備，能夠進(jìn)行全自動并行工藝處理。系統(tǒng)主要由傳輸模塊和3個工藝模塊組成，...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： AGF Series電阻式SiC長晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長，多加熱器設(shè)計允許靈活的工藝和熱場設(shè)置，下裝載結(jié)構(gòu)可實現(xiàn)便捷的開裝爐及維護(hù)...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： APS Series感應(yīng)式SiC長晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長，創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可提供高純材料生長能力，擁有高精度的控溫、控壓能力，工藝...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： NVT-HG單晶生長爐主于光伏產(chǎn)業(yè)8-12英寸單晶硅制備工藝，該機(jī)臺具有大投料量，高拉速，低能耗，自動化、智能化的優(yōu)點。能夠進(jìn)行全自動并進(jìn)行工藝處理。系統(tǒng)主要由...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： SC3080 12英寸單片清洗設(shè)備可同時配備多種藥液，主要用于12英寸后段和前段清洗工藝。該機(jī)臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給模塊、電源柜等組成，標(biāo)配8個腔...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機(jī)臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機(jī)滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應(yīng)用，可用于典型0.35...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： EPEE i200等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺式多反應(yīng)腔架構(gòu)，兼容Si、Si...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： HORIC L200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜，設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高，可滿足半...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運(yùn)行。該設(shè)備主要由傳輸系統(tǒng)模塊、工藝腔室模塊、壓力控制模...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： NMC 508RIE介質(zhì)刻蝕機(jī)為電容耦合等離子體干法刻蝕機(jī)，適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝，具有高刻蝕速率和均勻性，工藝類型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕。該機(jī)臺為多...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言
詳細(xì)摘要： NMC 508M金屬刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢。...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2025-10-30 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
WB2000-IXA全自動色差計江蘇南京智拓儀器供應(yīng)
WB2000-IXA全自動色差計 面議
光照培養(yǎng)箱GPX-250A GPX-250B GPX-250C GPX-250D江蘇南京智拓儀器供應(yīng)
光照培養(yǎng)箱GPX-250A GPX-250B GPX-250C GPX-250D 面議儀表網(wǎng) 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼