詳細(xì)摘要: Hesper TO230R 單片減壓原位濕法氧化系統(tǒng)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研等領(lǐng)域,單腔或多腔多種設(shè)計,可滿足不同客戶需求,低擁有成本和低運(yùn)營...
產(chǎn)品型號:所在地:北京市更新時間:2026-09-20 在線留言
華兆科技(廣州)有限公司
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