詳細(xì)摘要： NMC 508M金屬刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢。...
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華兆科技（廣州）有限公司
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詳細(xì)摘要： NMC 508M金屬刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢。...
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詳細(xì)摘要： NMC 508CG多晶硅刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝。具備良好的形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性...
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詳細(xì)摘要： eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)，適用于12英寸集成電路領(lǐng)域，是一款PVD設(shè)備。該系統(tǒng)集成高溫去氣、等離子體預(yù)清洗、高溫Al、TaN、TT...
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詳細(xì)摘要： Polaris Series硅通孔物理氣相沉積系統(tǒng)主要由大氣平臺(tái)，真空傳輸平臺(tái)，去氣腔室，預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用Cluster Tool結(jié)構(gòu)，可配置...
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詳細(xì)摘要： eVictor Series 8英寸物理氣相沉積系統(tǒng)主要用于8英寸晶圓金屬薄膜沉積工藝。該機(jī)臺(tái)為多腔室前后雙平臺(tái)結(jié)構(gòu)，可支持10個(gè)工藝模塊，能夠進(jìn)行全自動(dòng)工藝處...
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