詳細(xì)摘要： EPEE i200等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺(tái)式多反應(yīng)腔架構(gòu)，兼容Si、Si...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2025-10-30 在線留言
華兆科技（廣州）有限公司
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詳細(xì)摘要： EPEE i200等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺(tái)式多反應(yīng)腔架構(gòu)，兼容Si、Si...
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詳細(xì)摘要： HORIC L200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜，設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高，可滿足半...
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詳細(xì)摘要： Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運(yùn)行。該設(shè)備主要由傳輸系統(tǒng)模塊、工藝腔室模塊、壓力控制模...
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