KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術(shù)實(shí)現(xiàn)薄膜厚度的精確測量,其測量范圍從 nm-mm,可實(shí)現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導(dǎo)體膜、有機(jī)薄膜、導(dǎo)電透明薄膜等膜厚精確測量,被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產(chǎn)品,可測量從幾 mm 到 450mm 大小的樣品,薄膜厚度測量范圍 1nm 到mm 級。
測量原理-光譜反射
光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應(yīng) (絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱)。 因?yàn)椴簧婕叭魏我苿釉O(shè)備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的,而橢偏儀側(cè)重薄于 10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間,兩種技術(shù)都可用。 而且具有快速,簡便,成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。
主要應(yīng)用
測量厚度、折射率、反射率和穿透率:
- 單層膜或多層膜疊加
- 單一膜層
- 液態(tài)膜或空氣層
技術(shù)能力
光譜波長范圍:190-1700 nm
厚度測量范圍:1nm-250 μm
測量n&k最小厚度:50 nm
準(zhǔn)確度:取較大值,1nm 或 0.2%
精度:0.02nm
穩(wěn)定性:0.05nm
光斑大?。?/span>1.5mm
樣品尺寸:直徑從 1mm 到 300mm 或更大
半導(dǎo)體薄膜:光刻膠、工藝薄膜、介電材料
液晶顯示:OLED、玻璃厚度、ITO
光學(xué)鍍膜:硬涂層厚度、減反涂層
高分子薄膜:PI、PC





































