EPEE i800 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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型號EPEEi800
品牌
所在地北京市
更新時間2025-09-06

北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司

廠商性質(zhì)其他
所在地區(qū)北京市
實名認(rèn)證已認(rèn)證
產(chǎn)品數(shù)量115
人氣值2647

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公司介紹主營產(chǎn)品

北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司（以下簡稱“北方華創(chuàng)”）成立于2001年9月，2010年在深圳證券交易所上市，代碼002371，是目前國內(nèi)集成電路工藝裝備的企業(yè)。北方華創(chuàng)以科技創(chuàng)新為基點(diǎn)，著眼未來，致力于加快推進(jìn)北方華創(chuàng)向新型制造業(yè)的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型；致力于成為半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域值得信賴的者；致力于提升人類智能生活品質(zhì)；致力于實現(xiàn)中國“智造強(qiáng)國”的夢想藍(lán)圖。北方華創(chuàng)主營半導(dǎo)體裝備、真空及鋰電裝備、精密元器件業(yè)務(wù)，為半導(dǎo)體、新能源、新材料等領(lǐng)域提供解決方案。公司現(xiàn)有六大研發(fā)生產(chǎn)基地，營銷服務(wù)體系覆蓋歐、美、亞等主要國家和地區(qū)。未來的北方華創(chuàng)，將以半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域企業(yè)的姿態(tài)登上世界舞臺，深耕發(fā)展，未來，堅持以客戶為中心，以價值創(chuàng)造者為本，持續(xù)創(chuàng)新，推動產(chǎn)業(yè)進(jìn)步，創(chuàng)造無限可能。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

EPEEi800等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)EPEEi800PECVDSystemEPEEi800系列主要用于6英寸及以下氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等介質(zhì)薄膜沉積工藝，采用單腔多片自動化傳輸架構(gòu)，兼容藍(lán)寶石、SiC、砷化鎵等不同襯底規(guī)格，可廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、半導(dǎo)體照明、科研等領(lǐng)域

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

EPEE i800 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

EPEE i800 PECVD System

EPEE i800系列主要用于6英寸及以下氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等介質(zhì)薄膜沉積工藝，采用單腔多片自動化傳輸架構(gòu)，兼容藍(lán)寶石、SiC、砷化鎵等不同襯底規(guī)格，可廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、半導(dǎo)體照明、科研等領(lǐng)域。

設(shè)備特點(diǎn)

多站式旋轉(zhuǎn)沉積架構(gòu)，兼具產(chǎn)能和均勻性優(yōu)勢
良好的片內(nèi)、片間薄膜均勻性控制
全自動晶圓傳輸系統(tǒng)，高效便捷
高效大功率在線清洗工藝及沉積顆粒度控制
集成多項人性化軟件操作功能

產(chǎn)品應(yīng)用

晶圓尺寸
8英寸及以下
適用材料
氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
適用工藝
氧化硅圖形化襯底層、鈍化保護(hù)層、絕緣層、掩摸層沉積
適用領(lǐng)域
化合物半導(dǎo)體、半導(dǎo)體照明、科研領(lǐng)域

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