- 設(shè)備特點
-
- 專業(yè)的磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計有效提高靶材利用率
- 靈活的腔室配置,優(yōu)化的工藝流程帶來大產(chǎn)能表現(xiàn),低運營成本
- 穩(wěn)定的傳輸系統(tǒng),兼容翹曲片、鍵合片、薄片等多種類型基片傳輸
- 良好的顆粒和應(yīng)力控制能力
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 晶圓尺寸12英寸
- 適用材料鋁、鎳釩、銀、鈦
- 適用工藝背面金屬化工藝
- 適用領(lǐng)域功率半導(dǎo)體、封裝


































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