SAMCO二手翻新ICP刻蝕機RIE-400iPC,是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng),采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室,是一個具有優(yōu)良工藝重復性和穩(wěn)定性的全規(guī)模生產(chǎn)系統(tǒng)。該系統(tǒng)是直徑4英寸等小直徑晶圓的專用系統(tǒng),可以在最小的潔凈室空間內(nèi)安裝。
主要特點和優(yōu)點
新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"
可高效穩(wěn)定地應用高射頻功率(2千瓦以上),并實現(xiàn)良好的均勻性。
大流量排氣系統(tǒng)
排氣系統(tǒng)直接連接到反應室,可以實現(xiàn)從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。
端點監(jiān)測
干涉法和發(fā)射光譜終點監(jiān)測儀可用于目標薄膜厚度的終點檢測。
易于維護的設(shè)計
TMP(渦輪分子泵)已集成在一個單元中,便于更換。
應用
GaN、GaAs、InP等化合物半導體的高精度加工
SiC、SiO?的高速加工
蝕刻鐵電材料(PZT、BST、SBT、SBT)、電極材料(Pt、Au、Ru、Al)和其他難以蝕刻的材料































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