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Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 電子束刻蝕系統(tǒng)

參考價訂貨量

13

≥1臺

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2022-09-29
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海
  • 產(chǎn)品數(shù)量92
  • 人氣值3780
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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為800萬美元。

本公司主要是一家以經(jīng)營電子接插件、線束、電線以及機械設備、中空產(chǎn)品等精密儀器、設備的維修,以及以半導體制造裝置、基板制造裝置、電腦軟件為主的貿(mào)易、轉口貿(mào)易及保稅區(qū)企業(yè)間貿(mào)易及保稅區(qū)貿(mào)易代理、貿(mào)易及相關技術咨詢的公司。

公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、 ISO9001-2000質(zhì)量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向專業(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。

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產(chǎn)地進口 加工定制
上海伯東日本*適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究的離子蝕刻機, 一般通氬氣 Ar, 無污染, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當前氣體成分, 判斷刻蝕情況.
Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 電子束刻蝕系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

上海伯東日本*適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究的離子蝕刻機, 一般通氬氣 Ar, 無污染, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當前氣體成分, 判斷刻蝕情況.

 

Hakuto 離子蝕刻機 IBE 主要優(yōu)點
1. 干式制程的微細加工裝置, 使得在薄膜磁頭, 半導體元件, MR sensor 等領域的開發(fā)研究及量產(chǎn)得以廣泛應用.
2. 物理蝕刻的特性, 無論使用什么材料都可以用來加工, 所以各種領域都可以被廣泛應用.
3. 配置使用美國考夫曼離子源
4. 射頻角度可以任意調(diào)整, 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀.
5. 基板直接加裝在直接冷卻裝置上, 所以可以在低溫環(huán)境下蝕刻.
6. 配置公轉自轉傳輸機構, 使得被蝕刻物可以得到比較均勻平滑的表面.
7. 機臺設計使用自動化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生產(chǎn)過程.

 

 

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE技術參數(shù):

基板尺寸

< Ф8 X 1wfr

 NS 離子刻蝕機檢測器可選

樣品臺

直接冷卻(水冷)0-90 度旋轉

離子源

4 cm,8cm,10cm,16cm
考夫曼離子源

均勻性

±5% for 4”Ф

硅片刻蝕率

20 nm/min

溫度

<100

 

 Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 組成:
 

 NS 離子蝕刻機通氬氣 Ar 不同材料的蝕刻速率:
 

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