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單室磁控濺射鍍膜儀 鍍膜機

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地鄭州市
  • 更新時間2022-10-04
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 所在地區(qū)鄭州市
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量20
  • 人氣值1072
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產(chǎn)地國產(chǎn) 加工定制是
單室磁控濺射鍍膜儀
主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
單室磁控濺射鍍膜儀 鍍膜機 產(chǎn)品詳情

簡單介紹:

單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

詳情介紹:

單室磁控濺射鍍膜儀設備用途:

用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

技術(shù)參數(shù):

 

真空室

圓型真空室,尺寸Ø 450×50mm

真空系統(tǒng)配置

復合分子泵、機械泵、閘板閥

極限壓力

≦6.67*10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)

恢復真空時間

40 分鐘可達到6 .6*10-4 Pa 。(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充入干燥氮氣后開始抽氣)

磁控靶組件

永磁靶三套;靶材尺寸Ø60mm(其中一個可濺射磁性材料);各靶射頻灘射和直流裁射兼容;靶內(nèi)水冷;三個靶可共同折向上面的樣品中心;靶與樣品距離 90~110mm可調(diào);當直接向上濺射時,靶與樣品距離40~80mm可調(diào)

基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺

基片結(jié)構(gòu)

基片加熱與水冷獨立工作,取下加熱爐可以換上水冷基片臺

樣品尺寸

Ø30mm

運動方式

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速 5~10 轉(zhuǎn)/分

加熱

基片加熱*高溫度600℃±1℃

基片負偏壓

-200V

氣路系統(tǒng)

質(zhì) 量 流 量 控制器 2 路

計算機控制系統(tǒng)

控制樣品轉(zhuǎn)動,擋板開關,靶位確認等

可選配件6工位基片加熱公轉(zhuǎn)臺

拆下單基片水冷加熱臺可以換上該轉(zhuǎn)臺??赏瑫r放置6片30mm的基片;6個工位中,其中一個工位安裝加熱爐,其余工位為自然冷卻基片臺;基片加熱*高溫度600℃ ±1℃

設備占地面積

主機

I300×800mm2

電控柜

70×700m2

 

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