設(shè)備結(jié)構(gòu)

系統(tǒng)主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置（選配）、磁力攪拌、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測(cè)量及

安裝條件

總功率：380V 50Hz 功率大于72KW，波動(dòng)范圍：小于±6％，配置多路接線插座；

可靠地線，對(duì)地電阻小于2Ω；

冷卻水：壓力2-3Bar ，流量1T/Hr，進(jìn)水溫度小于40攝氏度。

占地空間：約1700 mm（寬）×1250 mm（深）×2200 mm（高）

要求安裝場(chǎng)地的標(biāo)準(zhǔn)溫度為20℃～24℃，標(biāo)準(zhǔn)相對(duì)濕度為50%～60%；

壓縮空氣（用戶自備）：用量小于40L/Min，壓力0.4MPa。；

外排廢氣管道

控制柜到設(shè)備動(dòng)力線纜用戶自備。

非自耗電弧熔煉系統(tǒng)

真空室為圓型臥式前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，真空室采用304不銹鋼材質(zhì)，雙層爐壁水冷結(jié)構(gòu)并電解處理。

電弧熔煉電源，電流最大1000A。

引弧及熔煉電極采用鎢電極，引弧方式為氣氛保護(hù)下非接觸式高頻引弧。

電弧槍采用波紋管密封結(jié)構(gòu)，通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)直線導(dǎo)軌升降。

熔煉方式為手動(dòng)引弧，通過(guò)操作把手調(diào)節(jié)電弧槍擺角實(shí)現(xiàn)手動(dòng)旋轉(zhuǎn)熔化。

機(jī)械手采用波紋管密封，用于轉(zhuǎn)移合金錠。

電動(dòng)旋轉(zhuǎn)水冷銅坩堝：工位呈半球平底碗碟狀，最大熔煉合金量：300克（以Fe計(jì)算）。

設(shè)有電磁攪拌功能。

真空及測(cè)量系統(tǒng)

真空獲得采用機(jī)械泵或分子泵組（分子泵為選配）。

真空測(cè)量采用數(shù)顯真空計(jì)（單機(jī)械泵采用電阻規(guī)，分子泵組采用復(fù)合真空計(jì)）

設(shè)有兩路進(jìn)氣閥門(mén)，可充入保護(hù)性氣氛及大氣，可充氣體壓力最大：0.05MPa。

真空室主抽口前端設(shè)有金屬過(guò)濾網(wǎng)。

極限真空度：6.7×10-4 Pa（冷態(tài)），壓升率小于1 Pa/H。

電控系統(tǒng)

運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)：電弧槍升降運(yùn)動(dòng)及水冷銅坩堝旋轉(zhuǎn)。

通過(guò)按鈕控制真空泵及閥門(mén)的啟停。可實(shí)現(xiàn)西門(mén)子PLC程序控制抽真空、充入工作氣體、腔室放氣等過(guò)程，電控系統(tǒng)具備近程、遠(yuǎn)程雙控功能，可根據(jù)需要切換。

安全保護(hù)連鎖系統(tǒng)：水流繼電保護(hù)：報(bào)警（蜂鳴）并切斷相關(guān)電源。

總控電源系統(tǒng)。

水冷循環(huán)及檢測(cè)系統(tǒng)

循環(huán)水源：配循環(huán)水機(jī)。

水路系統(tǒng)：分水器+閥門(mén)+匯流器。

測(cè)量單元：水流繼電器+水壓表+水溫傳感器。