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高加工效率 大加工幅面高速版無掩模光刻機

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  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地蘇州市
  • 更新時間2026-09-20
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)蘇州市
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量52
  • 人氣值1404
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自2017年創(chuàng)立以來,托托科技始終深耕于精密光學儀器的研發(fā)和制造。公司憑借在微納光學加工及檢測領域的深厚積淀,打造了覆蓋無掩模光刻、高精度3D光刻、磁學檢測、光電檢測及3D顯微鏡五大核心產(chǎn)品線的技術矩陣,構建了設計、研發(fā)、制造、銷售及咨詢服務的全鏈條生態(tài)體系,以綜合實力持續(xù)為行業(yè)提供高品質(zhì)的產(chǎn)品和服務。

依托前沿技術與細致化設計,托托科技通過持續(xù)的技術創(chuàng)新,積極推動光電子技術從實驗室走向產(chǎn)業(yè)化落地,產(chǎn)品廣泛應用于半導體、生物醫(yī)療、清潔能源、消費電子、精密制造等關鍵領域。托托科技致力于為各行各業(yè)高質(zhì)量發(fā)展提供高精度、高效率的光學解決方案,助力產(chǎn)業(yè)升級與突破。

Founded in 2017, TuoTuo Technology has always been committed to the development of high-end precision optical instruments. With a solid foundation in Micro and Nano  optical processing and detection, the company has developed an advanced technology matrix covering five core product lines: maskless lithography, high-precision 3D lithography, magnetic detection, photoelectric detection, and 3D microscopes. It has also established a full-chain ecosystem for design, R & D, manufacturing, sales, and consulting services, continuously providing the industry with high-quality products and services through its outstanding comprehensive strength.


Relying on cutting-edge technology and meticulous design, TuoTuo Technology actively promotes the industrialization of photo-electronic technology through continuous innovation. Its products are widely used in key areas such as semiconductor, biomedicine, clean energy, consumer electronics, and precision manufacturing. TuoTuo Technology is dedicated to providing high-precision and high -efficiency optical solutions for the high-quality development of various industries, helping to drive industrial upgrades and breakthroughs.


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產(chǎn)地國產(chǎn) 加工定制是 適用領域科研
托托科技的高加工效率 大加工幅面高速版無掩模光刻機,核心適配小批量生產(chǎn)制造場景,基于DMD無掩模光刻技術打造,擁有UV Litho-S、UV Litho-S+兩款核心型號,是面向產(chǎn)業(yè)化落地的光刻設備。
高加工效率 大加工幅面高速版無掩模光刻機 產(chǎn)品詳情

托托科技的高加工效率 大加工幅面高速版無掩模光刻機,核心適配小批量生產(chǎn)制造場景,基于DMD無掩模光刻技術打造,擁有UV Litho-S、UV Litho-S+兩款核心型號,是面向產(chǎn)業(yè)化落地的光刻設備。


核心定位與技術基礎

1. 適用場景:專為小批量生產(chǎn)制造設計,兼顧高速加工與高精度要求,可滿足微電子、集成電路、掩模版制備等領域的產(chǎn)業(yè)化光刻需求;

2. 核心技術:采用DMD無掩模光刻技術,搭配掃描式光刻與光學主動對焦功能,保障大面積光刻時的精準度與聚焦清晰度,無需掩模版即可完成圖案轉(zhuǎn)移,省去制版成本與時間。


高加工效率 大加工幅面高速版無掩模光刻機核心優(yōu)勢與應用

1. 效率與精度兼顧:UV Litho-S擁有高光刻效率(可達2500mm2/min),UV Litho-S+則實現(xiàn)0.3μm超高加工精度,可滿足不同生產(chǎn)場景的效率/精度需求;

2. 產(chǎn)業(yè)化適配:8英寸大加工幅面適配晶圓級生產(chǎn),高速特性可完成小批量、定制化掩模版制備(可支持9英寸),減少外部依賴,縮短設計迭代周期;

3. 多領域應用:可廣泛應用于MEMS、光學衍射器件、超表面、掩模版制造等領域,能高精度加工微米/納米級圖案,支持復雜結(jié)構的大面積光刻。




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