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TXRF-V310 日本理學(xué)全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310-華普通用

參考價(jià)
面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號TXRF-V310
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時(shí)間2025-11-19
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 所在地區(qū)深圳市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量118
  • 人氣值2034
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深圳華普通用科技有限公司(簡稱華普通用)是一家專業(yè)從事儀器儀表代理的綜合性服務(wù)公司。公司前身于2004年成立。目前已經(jīng)成為國內(nèi)較大的儀器經(jīng)銷商,系統(tǒng)集成商和綜合服務(wù)商之一。

公司業(yè)務(wù)分為電子測試儀器部,化學(xué)分析儀器部,材料分析儀器部,電磁兼容測試儀器部以及芯片燒錄設(shè)備部。華普通用與美國力科(LECORY)、美國吉時(shí)利(KEITHLEY)、美國科學(xué)儀器公司STI、美國SerialTek、德國斯派克(SPECTRO)、美國SANBlaze、瑞士特測(TESEQ) 、中國臺灣崇貿(mào)(SystemGeneral) 、以色列HERMON Labs、西班牙ALBEDOTelecom SL、日本TAKAYA等數(shù)十家儀器制造商在中國區(qū)有著廣泛的合作。 *致力于為電子信息、教育科研、電力石化、醫(yī)藥衛(wèi)生、金屬塑膠等領(lǐng)域提供分析測試儀器和系統(tǒng)集成。2013年?duì)I業(yè)額超過1億元人民幣。

公司總部位于深圳市南山區(qū)科技園,在北京、上海、香港、廣州、蘇州、廈門等地設(shè)有分支機(jī)構(gòu),員工人數(shù)50多 人。通過與分銷伙伴的合作,擁有覆蓋全國的服務(wù)網(wǎng)絡(luò)。華普通用擁有一批技術(shù)型的銷售工程師和專業(yè)的售后隊(duì)伍,在多年的發(fā)展中積累了大量的案例和經(jīng)驗(yàn),能夠 給客戶提供迅速、*、專業(yè)的服務(wù)。長風(fēng)破浪會有時(shí),直掛云帆濟(jì)滄海,華普通用將通過不懈的努力,繼續(xù)專注于為客戶提供分析測試解決方案,和客戶一起成 功!


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日本理學(xué)全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310通過 VPD-TXRF 進(jìn)行晶圓表面污染測量超痕量元素表面污染的測量
日本理學(xué)全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310-華普通用 產(chǎn)品詳情

全反射 X 射線熒光光譜儀
全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310
分析可以測量所有晶圓廠工藝中的污染,包括清潔、光刻、蝕刻、灰化、薄膜等。全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310 可以使用單目標(biāo) 3 光束 X 射線系統(tǒng)和無液氮探測器系統(tǒng)測量從鈉到烏的元素。

全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310包括理學(xué)的XYθ樣品臺系統(tǒng),真空晶圓機(jī)器人轉(zhuǎn)移系統(tǒng)和新的用戶友好型Windows軟件。所有這些都有助于提高吞吐量、更高的準(zhǔn)確度和精度,以及簡化的日常操作。

集成的 VPD 功能可實(shí)現(xiàn)一個(gè)晶圓的自動(dòng) VPD 制備,同時(shí)在另一個(gè)晶圓上進(jìn)行 TXRF 測量,以獲得的靈敏度和高吞吐量。全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310消除了 ICP-MS 可能出現(xiàn)的操作員可變性,并且 VPD-TXRF 可以通過工廠自動(dòng)化控制??蓮倪x定區(qū)域(包括斜面區(qū)域)進(jìn)行 VPD 恢復(fù)。

可選的掃描TXRF軟件可以繪制晶圓表面上的污染物分布圖,以識別可以更高精度自動(dòng)重新測量的“熱點(diǎn)”。

可選的 ZEE-TXRF 功能克服了原始 TXRF 設(shè)計(jì)歷 15 mm 邊緣排除的問題,使測量能夠以零邊緣排除進(jìn)行。

可選的 BAC-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn) 300 mm 晶圓的全自動(dòng)正面和背面 TXRF 測量,并進(jìn)行非接觸式晶圓翻轉(zhuǎn)。

特征
  • 接受 300 mm、200 mm 和 150 mm 晶圓

  • 多種分析元素(Na~U)

  • 輕元素靈敏度(針對鈉、鎂和鋁)

  • 單靶3光束法和XYθ載物臺是理學(xué)的,可在整個(gè)晶圓表面進(jìn)行高精度的超痕量分析

  • 集成的全自動(dòng) VPD 制備,可實(shí)現(xiàn)靈敏度

  • 1E7 原子/cm2 檢測限

  • 從缺陷檢測工具導(dǎo)入測量坐標(biāo)以進(jìn)行后續(xù)分析

  • 多任務(wù)處理:同時(shí)進(jìn)行 VPD 和 TXRF 操作,實(shí)現(xiàn)吞吐量

規(guī)格
產(chǎn)品名稱TXRF-V310
技術(shù)全反射 X 射線熒光 (TXRF) 帶氣相分解 (VPD)
效益超痕量元素表面污染的測量;1E7 原子/cm2 檢測限
科技自動(dòng) VPD 制備、三光束激發(fā)和自動(dòng)光學(xué)對準(zhǔn)
核心屬性自動(dòng) VPD、旋轉(zhuǎn)陽極 X 射線源、XYθ 樣品臺、無液氮檢測器,可接受 300 mm、200 mm 和 150 mm 晶圓
核心選項(xiàng)用于全工廠自動(dòng)化的 GEM-300 自動(dòng)化軟件,SP-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn)整個(gè)晶圓表面的映射,ZEE-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn)零邊緣排除測量,BAC-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)正面和背面測量
計(jì)算機(jī)內(nèi)置電腦,微軟視窗操作系統(tǒng)®
核心尺寸1200(寬)x 2050(高)x 2990(深)毫米
質(zhì)量1650公斤(核心單元)
電源要求3?, 200 VAC 50/60 Hz, 125 A


關(guān)鍵詞:光譜儀
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