一、產(chǎn)品簡介

　　CP200臺階儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測量儀器，其主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。測量時(shí)通過使用2μm半徑的金剛石針尖在超精密位移臺移動樣品時(shí)掃描其表面，測針的垂直位移距離被轉(zhuǎn)換為與特征尺寸相匹配的電信號并最終轉(zhuǎn)換為數(shù)字點(diǎn)云信號，數(shù)據(jù)點(diǎn)云信號在分析軟件中呈現(xiàn)并使用不同的分析工具來獲取相應(yīng)的臺階高或粗糙度等有關(guān)表面質(zhì)量的數(shù)據(jù)。

　　CP200臺階儀采用了高精度的傳感器LVDT，具備超微力調(diào)節(jié)的能力和亞埃級的分辨率，同時(shí)，基于超滑光學(xué)平晶，其集成了超低噪聲信號采集、超精細(xì)運(yùn)動控制、標(biāo)定算法等核心技術(shù)，使得儀器具備超高的測量精度和測量重復(fù)性。

　　CP200臺階儀具備的應(yīng)用場景適應(yīng)性，其對被測樣品的反射率特性、材料種類及硬度等均無特殊要求，能夠廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能光伏、光學(xué)加工、LED、MEMS器件、微納材料制備等各行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)的工業(yè)企業(yè)與高校院所等科研單位，其對表面微觀形貌參數(shù)的準(zhǔn)確表征，對于相關(guān)材料的評定、性能的分析與加工工藝的改善具有重要意義。

二、產(chǎn)品功能

1. 參數(shù)測量功能

1） 臺階高度：能夠測量納米到1050μm的臺階高度，可以準(zhǔn)確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。

2） 粗糙度與波紋度：能夠測量樣品的粗糙度和波紋度，分析軟件通過計(jì)算掃描出的微觀輪廓曲線，可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等數(shù)十項(xiàng)參數(shù)。

3） 具備薄膜應(yīng)力測量功能。

2. 測量模式與分析功能

1） 單區(qū)域測量模式：完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖設(shè)置掃描起點(diǎn)和掃描長度，即可開始測量。

2） 多區(qū)域測量模式：完成Focus后，根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置，可根據(jù)橫向和縱向距離來陣列形成不低于30個(gè)掃描路徑區(qū)域，一鍵即可完成所有區(qū)域掃描路徑的自動測量，掃描分析次數(shù)15次。

3） 3D測量模式：完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置，并可根據(jù)所需掃描的區(qū)域?qū)挾然驋呙杈€條的間距與數(shù)量完成整個(gè)掃描面區(qū)域的設(shè)置，一鍵即可自動完成整個(gè)掃描面區(qū)域的掃描和3D圖像重建。

4） SPC統(tǒng)計(jì)分析：支持對不同種類被測件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析，針對批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的變化趨勢。

3. 快速換針功能

　　采用了磁吸式測針，當(dāng)需要執(zhí)行換針操作時(shí)，可現(xiàn)場快速更換掃描測針，并根據(jù)軟件中的標(biāo)定模塊進(jìn)行快速自動標(biāo)定，確保換針后的精度和重復(fù)性，減少維護(hù)煩惱。

4. 雙導(dǎo)航光學(xué)影像功能

　　在CP200型號中配備了正視和斜視的500W像素的彩色相機(jī)，在正視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可精確設(shè)置掃描路徑，在斜視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可實(shí)時(shí)跟進(jìn)掃描軌跡。

四、典型應(yīng)用

懇請注意：因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要，本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改，恕不另行通知，不便之處敬請諒解。