NSR-S635EArF浸入式光刻機(jī),集成內(nèi)聯(lián)對(duì)準(zhǔn)站(iAS),用于大容量5nm節(jié)點(diǎn)應(yīng)用程序制造。采用流型平臺(tái)效率,NSR-S635E在2.1nmMMO下提供了更好的覆蓋精度,同時(shí)提供了超過(guò)275WPH(96次)的顯著吞吐量。
NSR-S635EArF浸入式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)站對(duì)所有晶圓進(jìn)行高速、超精確的測(cè)量,然后在不降低光刻系統(tǒng)吞吐量的情況下糾正有問(wèn)題的網(wǎng)格誤差。iAS能夠?qū)A片上的所有鏡頭進(jìn)行全面、多點(diǎn)對(duì)齊,實(shí)現(xiàn)顯著的疊加改進(jìn),以及限度的掃描儀吞吐量。




































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