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儀表網(wǎng)>全部分類 >實驗儀器 >其它實驗儀器 >鍍膜機 返回產(chǎn)品中心
鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子槍加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。中文名真空鍍膜機外文名vacuumcoatingmachine別名真空鍍膜設(shè)備主要思路采用等離子技術(shù),在真空條件下,制備純度高的金屬膜、化合物膜等適用范圍半導(dǎo)體、顯示、光伏、工具鍍膜、裝飾鍍膜、功能鍍膜等。1簡介需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使

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  • 摘要倍增級磁控鍍膜機主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實現(xiàn)對光電倍增管的倍增級基底進行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測試等功能,可進行數(shù)字化編程、程序控制和動態(tài)監(jiān)測,能夠?qū)崟r顯示、記錄、統(tǒng)計、計算、保存、輸出各種運行數(shù)據(jù),...

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  • 摘要 該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積??慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜,亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機為雙腔室,共用高真空系統(tǒng);為避免交叉污染,一個腔室可實現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜,另一腔室可實現(xiàn)濺射鍍膜。

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  • 摘要 該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等)的研發(fā)和小批生產(chǎn)。

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  • 摘要磁控濺射鍍膜機是應(yīng)用泛的PVD沉積設(shè)備,可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜,亦可鍍鐵磁材料。該設(shè)備主要用于實驗室制備光學(xué)膜層,電學(xué),光電膜層及其它功能膜層,以及制備用于生長納米材料的催化...

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  • 摘要 該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,可進行反應(yīng)濺射;用于硬質(zhì)膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

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  • 摘要 該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能,用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積;可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜,亦可鍍鐵磁材料。

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  • 摘要 該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機,四對電極可單獨或同時蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu),四對電極可單獨或共蒸發(fā),樣品Φ300(max),樣品臺公自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào);流量計控制氣體流量,滿足離子轟擊壓力要求。

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  • 摘要該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等,用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室兩個真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜,完成用戶主要鍍膜工藝過程。預(yù)備室通過高真空插板閥與主腔室相連,可以用于鍍...

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  • 摘要倍增級磁控鍍膜機主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實現(xiàn)對光電倍增管的倍增級基底進行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測試等功能,可進行數(shù)字化編程、程序控制和動態(tài)監(jiān)測,能夠?qū)崟r顯示、記錄、統(tǒng)計、計算、保存、輸出各種運行數(shù)據(jù),...

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  • 摘要 產(chǎn)品詳情更多光學(xué)鍍膜機是用于紅外截止濾光片、分色濾光片等光學(xué)鏡片成膜的真空鍍膜裝置

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  • 摘要 浸漬提拉鍍膜機浸漬提拉鍍膜機是適用于溶膠-凝膠法(Sol--Gel法,簡稱SG法)制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器

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  • 摘要小型蒸鍍儀鄭州科探儀器KT-Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率,可對大部分金屬進行均勻蒸發(fā)沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品...

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  • 摘要 DH-450系列高真空鍍膜機為箱式前開門電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,采用系統(tǒng)框架,結(jié)構(gòu)緊湊,外觀更漂亮,使用更安全

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  • 摘要 半導(dǎo)體加熱管真空鍍膜機用電熱管光伏設(shè)備用發(fā)熱管加熱板廠家直供

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  • 摘要 蒸鍍儀 VDS-600C-120

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  • 摘要 主要特點  這款蒸鍍儀是我公司研發(fā)的一款微型高真空蒸鍍薄膜生長設(shè)備,利用高真空下材料分子束縛分離后的動力實現(xiàn)蒸發(fā),可通過蒸發(fā)臺和基體之間的距離調(diào)節(jié)實現(xiàn)對分子的篩選,從而制備出高質(zhì)量的薄膜

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  • 摘要BEVS 1818H微型自動涂膜機(帶真空加熱床)用于制備均一可溯的涂膜(手工涂膜經(jīng)常不協(xié)調(diào),特別是不同操作人員之間,這就使得試樣的比較很困難,甚*是不可靠),其重現(xiàn)性好。因為影響涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量。該儀器使用一個可控制的線棒或涂膜器,以選定的...

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  • 摘要浸漬提拉鍍膜機ZRX-29319是適用于溶膠-凝膠法(Sol--Gel法,簡稱SG法)制備薄膜的浸漬提拉法的款精度儀器。核心部件采用口配件,控制提拉速度,多次重復(fù)鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉度、浸漬時間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時間均可以通過程序控制。適用于玻璃...

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  • 摘要 ZRX-28019垂直提拉涂膜機主要點1、由驅(qū)動器細分兩相混合式步電機的步角度。2、可設(shè)定提拉速度、停留時間、入液速度、循環(huán)次數(shù)。

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  • 摘要 低真空鍍膜機噴金儀|噴碳儀|蒸鍍儀LeicaEMACE200為SEM和TEM分析生產(chǎn)同質(zhì)和導(dǎo)電的金屬或碳涂層,之前從未有過比與LeicaEMACE200涂層系統(tǒng)更方便的設(shè)備了

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  • 摘要 濺射鍍膜機LeicaEMACE600碳、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴使用EMACE600濺射鍍膜機,充滿信心地制備用于電鏡分析的細粒度薄膜

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  • 摘要 產(chǎn)品簡介:臺式磁控濺射鍍膜機可提供單陰極和雙陰極配置。所有磁控管濺射配置均為向下濺射模式?!ぁぁ?/p> 在線詢價

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  • 摘要 產(chǎn)品簡介:NE-650MH 高真空磁控濺射鍍膜儀是我公司研制開發(fā)的一款經(jīng)濟實用的袖珍型磁控濺射設(shè)備,···

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  • 摘要 產(chǎn)品簡介:離子濺射儀NE-900依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作···

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  • 摘要 產(chǎn)品簡介:NE-800C型熱蒸發(fā)鍍膜機能通過對碳纖維繩加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成···

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  • 摘要 武漢嘉儀通科技有限公司成立于2009年,是一家技術(shù)自主創(chuàng)新的國家新技術(shù)企業(yè)。公司集快速退火爐研發(fā)、市場和技術(shù)服務(wù)于一體的快速退火爐廠家,本公司生產(chǎn)銷售的快速退火爐覆蓋1-12吋樣品測試,分為科研與產(chǎn)線兩種應(yīng)用場景類型共8款機型。

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  • 摘要型號:AB4400 品牌:荷蘭TQC產(chǎn)品簡述:荷蘭TQC自動涂膜機提供了可靠的基礎(chǔ),以均勻和可重復(fù)的方式將涂膜應(yīng)用于測試卡紙,面板或箔片,以消除由人為因素引起的變化。荷蘭TQC AB440...

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  • 摘要型號:AB4120 品牌:荷蘭TQC產(chǎn)品簡述:荷蘭TQC自動涂膜機提供了可靠的基礎(chǔ),以均勻和可重復(fù)的方式將涂膜應(yīng)用于測試卡紙,面板或箔片,以消除由人為因素引起的變化。荷蘭TQC AB412...

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  • 摘要型號:AB4400 品牌:荷蘭TQC產(chǎn)品簡述:荷蘭TQC自動涂膜機提供了可靠的基礎(chǔ),以均勻和可重復(fù)的方式將涂膜應(yīng)用于測試卡紙,面板或箔片,以消除由人為因素引起的變化。荷蘭TQC AB422...

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  • 摘要型號:AB4320 品牌:荷蘭TQC產(chǎn)品簡述:荷蘭TQC自動涂膜機提供了可靠的基礎(chǔ),以均勻和可重復(fù)的方式將涂膜應(yīng)用于測試卡紙,面板或箔片,以消除由人為因素引起的變化。荷蘭TQC AB432...

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  • 摘要型號:AB4420 品牌:荷蘭TQC產(chǎn)品簡述:荷蘭TQC自動涂膜機提供了可靠的基礎(chǔ),以均勻和可重復(fù)的方式將涂膜應(yīng)用于測試卡紙,面板或箔片,以消除由人為因素引起的變化。荷蘭TQC AB442...

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  • 摘要 型號:Elcometer4340 品牌:英國易高Elcometer產(chǎn)品簡述:Elcometer4340自動涂膜機是制備油漆、清漆、化妝品、膠水等眾多類型產(chǎn)品樣本的裝置。

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  • 摘要 型號:AFA-II 品牌:普申產(chǎn)品簡述:

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  • 摘要 一.產(chǎn)品應(yīng)用本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料

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  • 摘要嘉儀通 高溫快速退火爐用于半導(dǎo)體快速退火,設(shè)備可實現(xiàn)大尺寸樣品(4英寸樣品)快速升溫和降溫,同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng),可達到好的溫場均勻性,對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氧化(RTO)、快速熱氮化(RTN)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)工作起到...

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  • 摘要 AFA-II 自動涂膜機是為了使試驗人員能方便地在不同底材上涂布出精確的涂膜,減小或消除由于涂布速度及施加壓力不同等人為因素造成的誤差。本機用真空將試紙平整地吸在吸盤上,大大提高了涂膜的重現(xiàn)性。

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  • 摘要GV1132N自動涂膜機獲得對涂膜的物理性、外觀、化學(xué)性能*均勻的涂膜?!舨煌苛系耐坎妓俣葟?0-500 mm/秒可調(diào)(增量為:10mm/秒)◆可預(yù)設(shè)4種程序以獲得的涂布效果◆從鍵盤上可調(diào)節(jié)涂布速度及向前向后移動◆計數(shù)器記錄開始及停止時間,速度到200 mm/秒時即...

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  • 摘要 BEVS 1811/2 自動涂膜機產(chǎn)品概述:◆獲得對涂層的物理性能、外觀、化學(xué)性能*均勻的涂膜◆不同涂料的涂布速度從20-300 mm/秒可調(diào)◆可調(diào)節(jié)涂布速度及向前向后移動◆觸摸屏編程控制、易于操作.

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  • 摘要小型蒸鍍儀熱蒸發(fā)鍍膜機KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率,可對大部分金屬進行均勻蒸發(fā)沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品...

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  • 摘要 PF200-H小型涂膜儀產(chǎn)品特點數(shù)字化界面控制系統(tǒng),操作便捷鋁合金鏡面研磨加工平面面板,帶真空吸附功能精準控制剪切速率,提供涂膜重現(xiàn)性設(shè)備可調(diào)涂膜刮刀或標準線棒操作

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  • 摘要 PF400-H加熱控溫型涂膜儀產(chǎn)品特點數(shù)字化界面控制系統(tǒng),操作便捷硬質(zhì)陽極氧化鋁基板,表面平整,帶真空吸附功能精準控制剪切速率,提供涂膜重現(xiàn)性設(shè)備可調(diào)涂膜刮刀或標準線棒操作

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  • 摘要 PF400標準型涂膜儀產(chǎn)品特點數(shù)字化界面控制系統(tǒng),操作便捷硬質(zhì)陽極氧化鋁基板,表面平整,帶真空吸附功能精準控制剪切速率,提供涂膜重現(xiàn)性設(shè)備可調(diào)涂膜刮刀或標準線棒操作

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  • 摘要 SD050狹縫涂膜儀高精度伺服控制系統(tǒng),移動平穩(wěn)精細硬質(zhì)氧化鋁面板,刮涂效果均勻穩(wěn)定雙極調(diào)整刀頭參數(shù),操作更精確配備觸屏控制面板操作系統(tǒng),操作便捷全新嵌入式溫控器,調(diào)控更精準體積小巧可進手套箱,可滿足特定氣體環(huán)境需求

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  • 摘要 自動涂膜器手動涂膜會因為作用在涂膜器上的速度和壓力的不同而造成膜層的不規(guī)則

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  • 摘要 實驗室自動涂膜機產(chǎn)品簡介:AFA-II自動涂膜機是為了使試驗人員能方便地在不同底材上涂布出精確的涂膜,減小或消除由于涂布速度及施加壓力不同等人為因素造成的誤差

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    激光雕刻煙霧凈化器切割亞克力除煙除味機
    激光切割亞克力時,使用除煙除味凈化器搭配靜電除塵濾網(wǎng),可以有效改善工作環(huán)境,減少煙霧和異味對健康和設(shè)備的危害。選擇合適的設(shè)備并定期維護,能夠確保長期穩(wěn)定的凈化效果。
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  • sheen 自動涂膜機

    獲得對涂膜的物理性、外觀、化學(xué)性能*均勻的涂膜?!舨煌苛系耐坎妓俣葟?0-500 mm/秒可調(diào)(增量為:10mm/秒)◆可預(yù)設(shè)4種程序以獲得的涂布效果◆從鍵盤上可調(diào)節(jié)涂布速度及向前向后移動◆計數(shù)器記錄開始及停止時間,速度到200 mm/秒時即自停
  • 提拉涂膜機

    1. 提拉速度范圍:1~5000 μm/s,最小分辨率1μm/s;
    2. 適用基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 100×100 mm,厚度MAX 10mm;
    3. 浸漬時間:1~1200 s,最小分辨率1s;
    4. 鍍膜次數(shù):1~100次,最少1次;
    5. 每次鍍膜間隔時間:1~3600 s,最小分辨率1s;
  • 提拉涂膜機-

    參數(shù)

    電源:220V
    功率:50W
    提拉速度:1mm/min-200mm/min
    速度穩(wěn)定性:±0.05%
    樣件尺寸:75mm×25mm×2.5mm
  • 提拉涂膜機

    參數(shù)
    電源:220V
    功率:50W
    提拉速度:1mm/min-200mm/min
    速度穩(wěn)定性:±0.05%
    樣件尺寸:75mm×25mm×2.5mm
  • 浸漬提拉涂膜機

    二、產(chǎn)品簡介

    浸漬提拉鍍膜機是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計,對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實驗精度與實驗效率。
    適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面
  • 浸漬提拉涂膜機

    一. 產(chǎn)品應(yīng)用
    本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中,通過預(yù)先設(shè)置的浸漬時間、提拉速度、提拉高度、鍍膜次數(shù)等參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來,在基片的表面形成一層納米級的薄膜。膜層厚度由提拉速度,液體濃度和液體粘度決定。
    采用溶膠-凝膠法鍍膜,隨著基片從溶膠中提拉出來,在基片上附著一層膜,稱為“濕凝膠膜”,隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的
  • 浸漬提拉鍍膜 涂膜提拉機

    浸漬提拉鍍膜 涂膜提拉機 提拉涂膜機
    型號:AOD-HTDC-300
    浸漬提拉鍍膜 涂膜提拉機 提拉涂膜機是適用于溶膠-凝膠法(Sol--Gel法,簡稱SG法)制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進口配件,精準控制提拉速度,多次重復(fù)鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時間均可以通過程序精確控制。適用于玻璃、Si(100)、Si(111)、藍寶
  • 浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉

    浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機
    技術(shù)參數(shù)
    提拉行程:0~150mm(可定制行程)
    提拉速度范圍:1~55000μm/s,小分辨率 1μm/s
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