資料簡介
NCAM-300型3500℃ 單工位300克非自耗電弧熔煉爐
本電弧熔煉系統(tǒng)設備主要由真空及測量系統(tǒng)、非自耗電弧熔煉系統(tǒng)、吸鑄系統(tǒng)(選配)、電控系統(tǒng)、工作臺架、水路等附件系統(tǒng)組成,可在高純氬氣保護環(huán)境下利用鎢電極產(chǎn)生的電弧熔化各類低、高熔點金屬材料,不僅可以進行稀土金屬元素及金屬的合金化處理,也可用于半導體材料如硅材料的熔融。可選配下吸鑄功能,用于制備塊狀、棒狀及不規(guī)則形狀的合金試樣,可用于制備大塊非晶材料及各類難熔合金材料。結構緊湊,外形美觀,適合高校、科研院所及企業(yè)用于材料研究、開發(fā)、質量控制等。
技術資料
產(chǎn)品型號 | NCAM-300 |
設備結構 | 系統(tǒng)主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置(選配)、磁力攪拌、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及 |
安裝條件 | 總功率:380V 50Hz 功率大于72KW,波動范圍:小于±6%,配置多路接線插座; 可靠地線,對地電阻小于2Ω; 冷卻水:壓力2-3Bar ,流量1T/Hr,進水溫度小于40攝氏度。 占地空間:約1700 mm(寬)×1250 mm(深)×2200 mm(高) 要求安裝場地的標準溫度為20℃~24℃,標準相對濕度為50%~60%; 壓縮空氣(用戶自備):用量小于40L/Min,壓力0.4MPa。; 外排廢氣管道 控制柜到設備動力線纜用戶自備。 |
非自耗電弧熔煉系統(tǒng) | 真空室為圓型臥式前開門結構,真空室采用304不銹鋼材質,雙層爐壁水冷結構并電解處理。 電弧熔煉電源,電流最大1000A。 引弧及熔煉電極采用鎢電極,引弧方式為氣氛保護下非接觸式高頻引弧。 電弧槍采用波紋管密封結構,通過電機驅動直線導軌升降。 熔煉方式為手動引弧,通過操作把手調節(jié)電弧槍擺角實現(xiàn)手動旋轉熔化。 機械手采用波紋管密封,用于轉移合金錠。 電動旋轉水冷銅坩堝:工位呈半球平底碗碟狀,最大熔煉合金量:300克(以Fe計算)。 設有電磁攪拌功能。 |
真空及測量系統(tǒng) | 真空獲得采用機械泵或分子泵組(分子泵為選配)。 真空測量采用數(shù)顯真空計(單機械泵采用電阻規(guī),分子泵組采用復合真空計) 設有兩路進氣閥門,可充入保護性氣氛及大氣,可充氣體壓力最大:0.05MPa。 真空室主抽口前端設有金屬過濾網(wǎng)。 極限真空度:6.7×10-4 Pa(冷態(tài)),壓升率小于1 Pa/H。 |
電控系統(tǒng) | 運動控制系統(tǒng):電弧槍升降運動及水冷銅坩堝旋轉。 通過按鈕控制真空泵及閥門的啟停??蓪崿F(xiàn)西門子PLC程序控制抽真空、充入工作氣體、腔室放氣等過程,電控系統(tǒng)具備近程、遠程雙控功能,可根據(jù)需要切換。 安全保護連鎖系統(tǒng):水流繼電保護:報警(蜂鳴)并切斷相關電源。 總控電源系統(tǒng)。 |
水冷循環(huán)及檢測系統(tǒng) | 循環(huán)水源:配循環(huán)水機。 水路系統(tǒng):分水器+閥門+匯流器。 測量單元:水流繼電器+水壓表+水溫傳感器。 |
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