掃描電容顯微鏡(SCM)是一種表征材料納米電學(xué)性質(zhì)的先進成像技術(shù),學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的研究人員均可憑借這一技術(shù)測量離子注入工藝過程中極小的波動和偏差,同時也可以研究材料的摻雜水平,從而進行失效分析。
牛津儀器于近期推出的搭載于Cypher和Jupiter型號AFM上的SCM模塊除了可以輕松實現(xiàn)以上工作外,還具有明顯優(yōu)于傳統(tǒng)SCM的巨大技術(shù)優(yōu)勢,包括更高的靈敏度、更高的分辨率、更快的成像速度以及可以直接準(zhǔn)確測量電容的能力,而不是僅僅對于微分電容(dC/dV)進行分析。
本文將從以下角度介紹這一模塊:
SCM的工作原理
牛津儀器的SCM模塊如何實現(xiàn)如此好的性能
為什么SCM直接測量電容的能力比傳統(tǒng)的對微分電容(dC/dV)進行測量更加實用
傳統(tǒng)半導(dǎo)體器件的成像實例
在此之前通過普通SCM技術(shù)不能實現(xiàn)成像的材料研究實例,包括不形成自然氧化層的材料
本文對于如下人員尤為具有實用意義:
半導(dǎo)體工業(yè)界的工藝工程師和失效分析工程師
微電子設(shè)備和下一代半導(dǎo)體材料的研發(fā)人員
研究其他先進材料的科研人員,包括二維材料和儲能材料

(左上)牛津儀器的SCM模塊可以直接測量樣品的電容,而不僅是微分電容(dC/dV)。所示樣品為通常用于SCM模塊標(biāo)樣的SRAM樣品。
(右上)牛津儀器的SCM模塊具有優(yōu)于其他SCM的更快的掃描速度。此處掃描速度為8Hz,是傳統(tǒng)SCM的8-16倍
(右下)所用樣品為階梯摻雜標(biāo)樣。和dC/dV amplitude的數(shù)據(jù)相比,電容的數(shù)據(jù)與摻雜水平的線性相關(guān)性更強。
(左下)牛津儀器的SCM模塊具有比傳統(tǒng)SCM更高的靈敏度,可以對一些非傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料進行表征,圖示樣品為碳納米管