四方光電塵埃粒子計(jì)數(shù)器在半導(dǎo)體潔凈生產(chǎn)中的應(yīng)用

來(lái)源：四方光電股份有限公司 2025年04月25日 15:34

半導(dǎo)體產(chǎn)能不斷擴(kuò)張，配套設(shè)備需求提升加速

隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模也從2017年的1315億美元增長(zhǎng)至2022年的1820億美元?；诎雽?dǎo)體產(chǎn)業(yè)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程不斷加快，下游晶圓廠也在不斷擴(kuò)張，中國(guó)芯片制造商預(yù)計(jì)2024 年將新開18座晶圓廠，產(chǎn)能將從760萬(wàn)片推升至860 萬(wàn)片。在半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化趨勢(shì)下，國(guó)內(nèi)晶圓廠的擴(kuò)張也有望帶動(dòng)半導(dǎo)體配套設(shè)備的國(guó)產(chǎn)替代需求，將隨著晶圓工廠的擴(kuò)產(chǎn)持續(xù)增加。

顆粒污染影響產(chǎn)品品質(zhì)，半導(dǎo)體制造潔凈度要求高

根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備制造商協(xié)會(huì) (SEMI) 最近發(fā)布的世界晶圓廠預(yù)測(cè) ，超過50%的半導(dǎo)體產(chǎn)量損失可歸因于微污染。為了限度地減少良率損失，半導(dǎo)體制造廠必須在潔凈室中采用嚴(yán)格的污染控制策略。半導(dǎo)體制造工藝復(fù)雜，如何提高產(chǎn)品的成品率對(duì)于半導(dǎo)體企業(yè)在競(jìng)爭(zhēng)中保持優(yōu)勢(shì)至關(guān)重要。影響半導(dǎo)體成品率的因素有很多，其中生產(chǎn)過程中的空氣雜質(zhì)（塵埃顆粒）是不可忽視的因素。由于高密度的集成電路的圖形特征尺寸和表面沉積層的厚度都已經(jīng)降到微米級(jí)別，更容易受到微粒的影響，這種微粒附著在半導(dǎo)體表面可能會(huì)形成致命的缺陷，導(dǎo)致器件失效。

LSI各制造工序與潔凈室的清潔條件

四方光電塵埃粒子計(jì)數(shù)器，讓潔凈室微塵無(wú)所遁形

四方光電在線粒子計(jì)數(shù)器OPC-6510DS采用光學(xué)散射原理，可精確檢測(cè)并計(jì)算單位體積內(nèi)空氣中不同粒徑的懸浮顆粒物的個(gè)數(shù)，具有28.3L/min大流量的氣體采樣速率，可同時(shí)輸出0.3um、0.5μm、1.0μm、5.0um、10um五個(gè)通道的顆粒數(shù)(默認(rèn)單位pcs/28.3L)，廣泛應(yīng)用于百級(jí)、千級(jí)、萬(wàn)級(jí)、十萬(wàn)級(jí)等潔凈室環(huán)境。

· 采用3.5寸觸摸屏，實(shí)時(shí)顯示各粒徑數(shù)量、等級(jí)以及報(bào)警信息等

· 內(nèi)置四方光電的塵源智能識(shí)別模塊，高效粒子識(shí)別率，檢測(cè)精度高

· 內(nèi)置超聲波流量傳感器，實(shí)現(xiàn)28.3L恒流采樣，數(shù)據(jù)長(zhǎng)期穩(wěn)定性高

· 低噪音渦輪風(fēng)機(jī)采樣，連續(xù)監(jiān)測(cè)穩(wěn)定性好，壽命長(zhǎng)

· 滿足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標(biāo)準(zhǔn)

未來(lái)四方光電將繼續(xù)深耕光散射技術(shù)，不斷創(chuàng)新，為客戶提供定制化的潔凈室解決方案，幫助客戶提高產(chǎn)品質(zhì)量。

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四方光電塵埃粒子計(jì)數(shù)器在半導(dǎo)體潔凈生產(chǎn)中的應(yīng)用

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