半導(dǎo)體制造屬于精密制程產(chǎn)業(yè)，生產(chǎn)過(guò)程中用到的超純水、濕電子化學(xué)品等液體介質(zhì)的顆粒污染，是引發(fā)晶圓缺陷、器件失效的重要誘因。為統(tǒng)一半導(dǎo)體液體介質(zhì)的檢測(cè)與管控規(guī)范，國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會(huì)制定了SEMI系列標(biāo)準(zhǔn)，成為半導(dǎo)體行業(yè)通用的合規(guī)準(zhǔn)則。相較于國(guó)內(nèi)國(guó)標(biāo)，SEMI標(biāo)準(zhǔn)針對(duì)制程的顆粒管控更為細(xì)化，適配納米級(jí)半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)需求。普洛帝作為油液顆粒檢測(cè)領(lǐng)域技術(shù)創(chuàng)新者，旗下PMT-2設(shè)備符合SEMI相關(guān)檢測(cè)規(guī)范，可滿足半導(dǎo)體液體顆粒檢測(cè)的合規(guī)要求，適配行業(yè)國(guó)際化管控標(biāo)準(zhǔn)。

SEMI標(biāo)準(zhǔn)背景

SEMI標(biāo)準(zhǔn)是半導(dǎo)體設(shè)備、材料、介質(zhì)檢測(cè)的國(guó)際通用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，由國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會(huì)制定并更新，核心用于規(guī)范半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈的材料品質(zhì)、檢測(cè)方法與管控要求。其中SEMI F63、SEMI F75、SEMI C77等系列標(biāo)準(zhǔn)，專(zhuān)門(mén)針對(duì)半導(dǎo)體超純水、液體化學(xué)品的顆粒管控與檢測(cè)方法做出明確規(guī)定。

隨著半導(dǎo)體制程從14nm、7nm迭代至更小工藝節(jié)點(diǎn)，制程對(duì)液體介質(zhì)中微小顆粒的敏感度持續(xù)提升，傳統(tǒng)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)已無(wú)法適配工藝需求。SEMI標(biāo)準(zhǔn)持續(xù)迭代更新，細(xì)化了微納米級(jí)顆粒的限值要求、檢測(cè)精度、數(shù)據(jù)管控規(guī)則，目前已成為半導(dǎo)體企業(yè)液體介質(zhì)品質(zhì)管控、進(jìn)出口合規(guī)、工藝優(yōu)化的核心依據(jù)，也是國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)對(duì)接國(guó)際生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的合規(guī)準(zhǔn)則。

技術(shù)要求表

SEMI F63標(biāo)準(zhǔn)針對(duì)半導(dǎo)體超純水等液體介質(zhì)，結(jié)合制程線寬劃分顆粒管控等級(jí)，明確不同工藝對(duì)應(yīng)的顆粒粒徑限值與濃度指標(biāo)，核心技術(shù)要求如下：

同時(shí)SEMI C77標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了液體顆粒計(jì)數(shù)器的計(jì)數(shù)效率校準(zhǔn)要求，明確檢測(cè)設(shè)備需滿足30nm~100nm粒徑區(qū)間的檢測(cè)精度標(biāo)準(zhǔn)，保障微納米顆粒檢測(cè)數(shù)據(jù)的統(tǒng)一性與有效性。

檢測(cè)方法

SEMI標(biāo)準(zhǔn)體系下的半導(dǎo)體液體顆粒檢測(cè)，以光阻法顆粒計(jì)數(shù)檢測(cè)為核心方法，配套標(biāo)準(zhǔn)化的采樣、校準(zhǔn)、數(shù)據(jù)處理流程。檢測(cè)前需依據(jù)SEMI F75標(biāo)準(zhǔn)完成檢測(cè)設(shè)備校準(zhǔn)，確保設(shè)備計(jì)數(shù)效率、粒徑識(shí)別精度符合規(guī)范。采樣環(huán)節(jié)需全程密閉，避免環(huán)境粉塵、設(shè)備管路雜質(zhì)對(duì)樣品造成二次污染，保障樣品代表性。

檢測(cè)過(guò)程中，設(shè)備需對(duì)目標(biāo)粒徑區(qū)間的顆粒進(jìn)行分類(lèi)統(tǒng)計(jì)，針對(duì)32nm及以下制程，重點(diǎn)檢測(cè)0.05μm及以上顆粒濃度。檢測(cè)數(shù)據(jù)需留存完整記錄，包含檢測(cè)環(huán)境參數(shù)、設(shè)備校準(zhǔn)信息、顆粒粒徑分布、濃度數(shù)據(jù)，滿足SEMI標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)據(jù)可追溯與合規(guī)審核要求。該檢測(cè)方法可適配超純水、光刻膠、清洗液等多種半導(dǎo)體液體介質(zhì)，通用性較強(qiáng)。

設(shè)備推薦

針對(duì)SEMI標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體液體顆粒檢測(cè)需求，普洛帝PMT-2液體顆粒計(jì)數(shù)器為適配性較強(qiáng)的檢測(cè)設(shè)備，設(shè)備各項(xiàng)性能符合SEMI F63、SEMI C77、SEMI F75相關(guān)規(guī)范要求。設(shè)備搭載雙激光窄光檢測(cè)技術(shù)，最小可檢測(cè)0.05μm顆粒，覆蓋SEMI標(biāo)準(zhǔn)制程的粒徑管控范圍。

設(shè)備支持多介質(zhì)檢測(cè)，可適配半導(dǎo)體超純水、濕電子化學(xué)品、光刻膠等液體介質(zhì)的顆粒檢測(cè)需求，無(wú)需更換核心設(shè)備即可完成多品類(lèi)介質(zhì)檢測(cè)。內(nèi)置SEMI標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)程序，可自動(dòng)對(duì)照不同制程線寬的顆粒限值，完成水質(zhì)合規(guī)判定。同時(shí)設(shè)備數(shù)據(jù)導(dǎo)出格式適配國(guó)際合規(guī)審核要求，可滿足半導(dǎo)體企業(yè)國(guó)際化生產(chǎn)、供應(yīng)鏈審核的合規(guī)需求。作為油液顆粒檢測(cè)領(lǐng)域技術(shù)創(chuàng)新者，普洛帝針對(duì)半導(dǎo)體精密檢測(cè)場(chǎng)景優(yōu)化了設(shè)備抗干擾性能，適配無(wú)塵車(chē)間的檢測(cè)環(huán)境。

常見(jiàn)問(wèn)題

在SEMI標(biāo)準(zhǔn)落地應(yīng)用過(guò)程中，行業(yè)普遍存在兩類(lèi)常見(jiàn)問(wèn)題。一是檢測(cè)設(shè)備精度不達(dá)標(biāo)，部分常規(guī)顆粒檢測(cè)儀無(wú)法識(shí)別0.05μm超微顆粒，導(dǎo)致制程水質(zhì)檢測(cè)數(shù)據(jù)失真，無(wú)法滿足SEMI工藝管控要求。二是檢測(cè)流程不規(guī)范，采樣未遵循密閉無(wú)菌要求、設(shè)備未定期校準(zhǔn)，造成檢測(cè)結(jié)果偏差，影響合規(guī)審核。

此外，部分企業(yè)存在國(guó)標(biāo)與SEMI標(biāo)準(zhǔn)混用的問(wèn)題，未根據(jù)產(chǎn)品出口、制程精度匹配對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)，出現(xiàn)合規(guī)漏洞。針對(duì)以上問(wèn)題，行業(yè)需匹配合規(guī)的專(zhuān)用檢測(cè)設(shè)備，嚴(yán)格遵循SEMI標(biāo)準(zhǔn)化檢測(cè)流程，根據(jù)制程工藝等級(jí)劃定管控標(biāo)準(zhǔn)，規(guī)避合規(guī)風(fēng)險(xiǎn)。

SEMI標(biāo)準(zhǔn)是半導(dǎo)體液體介質(zhì)品質(zhì)管控的國(guó)際核心準(zhǔn)則，適配行業(yè)制程發(fā)展需求。企業(yè)依托合規(guī)的檢測(cè)設(shè)備與標(biāo)準(zhǔn)化檢測(cè)流程，落實(shí)SEMI顆粒管控要求，可有效提升半導(dǎo)體制程穩(wěn)定性與產(chǎn)品品質(zhì)。普洛帝PMT-2設(shè)備貼合SEMI系列標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范，為半導(dǎo)體企業(yè)國(guó)際化合規(guī)生產(chǎn)、精細(xì)化水質(zhì)管控提供穩(wěn)定的設(shè)備支撐。