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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的穩(wěn)步發(fā)展,對(duì)生產(chǎn)制程中超純水、電子級(jí)水的水質(zhì)管控提出了規(guī)范化要求。電子級(jí)水作為半導(dǎo)體晶圓清洗、芯片蝕刻、薄膜沉積等核心工序的基礎(chǔ)介質(zhì),水中微小顆粒雜質(zhì)會(huì)直接影響半導(dǎo)體器件的良品率。國(guó)內(nèi)電子級(jí)水檢測(cè)與管控統(tǒng)一遵循GB/T 11446系列國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),該標(biāo)準(zhǔn)明確了電子級(jí)水的水質(zhì)指標(biāo)、顆粒限值、檢測(cè)方法與分級(jí)規(guī)范,是半導(dǎo)體純水水質(zhì)合規(guī)管控的核心依據(jù)。普洛帝作為油液顆粒檢測(cè)領(lǐng)域技術(shù)創(chuàng)新者,旗下PMT-2超純水檢測(cè)設(shè)備適配GB/T 11446全系列檢測(cè)要求,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)電子級(jí)水顆粒檢測(cè)場(chǎng)景,為水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)化管控提供設(shè)備支撐。
GB/T 11446是國(guó)內(nèi)電子級(jí)水檢測(cè)的專(zhuān)用國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),包含水質(zhì)規(guī)范、測(cè)試方法、采樣要求等多個(gè)分項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn),現(xiàn)行有效版本為2013版,全面適配電子工業(yè)生產(chǎn)用水的質(zhì)量管控需求。該標(biāo)準(zhǔn)針對(duì)電子產(chǎn)業(yè)不同生產(chǎn)場(chǎng)景,劃定了專(zhuān)用水質(zhì)管控體系,區(qū)別于普通工業(yè)純水、飲用水標(biāo)準(zhǔn),重點(diǎn)聚焦水中微納米級(jí)顆粒、微量雜質(zhì)等核心指標(biāo)。
標(biāo)準(zhǔn)核心適用場(chǎng)景覆蓋半導(dǎo)體、微電子、電子元器件制造等領(lǐng)域,針對(duì)制程用水的顆粒污染問(wèn)題制定了量化管控規(guī)則。其中GB/T 11446.1明確電子級(jí)水水質(zhì)分級(jí)指標(biāo),GB/T 11446.9規(guī)定了水中微粒的儀器測(cè)試方法,為顆粒計(jì)數(shù)檢測(cè)提供了標(biāo)準(zhǔn)化操作依據(jù)。在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,隨著制程工藝精度提升,水中0.05μm至0.5μm區(qū)間的微小顆粒成為主要管控對(duì)象,也是GB/T 11446標(biāo)準(zhǔn)的核心檢測(cè)范疇。
依據(jù)GB/T 11446.1-2013標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范,電子級(jí)水按照雜質(zhì)含量、顆粒數(shù)量劃分為四個(gè)等級(jí),分別為EW-Ⅰ、EW-Ⅱ、EW-Ⅲ、EW-Ⅳ,不同等級(jí)對(duì)應(yīng)不同半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝,具體顆粒管控指標(biāo)如下:
水質(zhì)等級(jí) | 0.05μm~0.1μm顆粒數(shù)(個(gè)/L) | 0.1μm~0.2μm顆粒數(shù)(個(gè)/L) | 0.2μm~0.5μm顆粒數(shù)(個(gè)/L) | 適用場(chǎng)景 |
EW-Ⅰ | ≤500 | ≤300 | ≤100 | 精密半導(dǎo)體芯片、納米制程工藝 |
EW-Ⅱ | ≤1000 | ≤600 | ≤200 | 常規(guī)半導(dǎo)體晶圓加工、微電子器件生產(chǎn) |
EW-Ⅲ | ≤2000 | ≤1000 | ≤500 | 普通電子元器件、電路板生產(chǎn) |
EW-Ⅳ | ≤5000 | ≤3000 | ≤1000 | 電子輔助制程、非精密電子生產(chǎn) |
從等級(jí)劃分可以看出,半導(dǎo)體精密制程所用的EW-Ⅰ、EW-Ⅱ級(jí)電子級(jí)水,對(duì)微納米顆粒管控嚴(yán)苛,需要專(zhuān)用高精度顆粒檢測(cè)設(shè)備完成水質(zhì)核驗(yàn)。
GB/T 11446.9-2013明確了電子級(jí)水中微粒的儀器檢測(cè)方法,行業(yè)主流采用光阻法顆粒計(jì)數(shù)檢測(cè)方式,該方法適配超純水、電子級(jí)水的低濃度顆粒檢測(cè)場(chǎng)景。檢測(cè)流程需遵循標(biāo)準(zhǔn)化采樣規(guī)范,采樣前完成管路沖洗、容器凈化,避免外界雜質(zhì)干擾檢測(cè)結(jié)果。
檢測(cè)過(guò)程中,設(shè)備需對(duì)0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.5μm等關(guān)鍵粒徑區(qū)間的顆粒進(jìn)行分類(lèi)計(jì)數(shù),統(tǒng)計(jì)單位體積水中的顆粒數(shù)量,對(duì)照國(guó)標(biāo)等級(jí)指標(biāo)判定水質(zhì)等級(jí)。同時(shí)檢測(cè)數(shù)據(jù)需具備可追溯性,完整記錄采樣時(shí)間、檢測(cè)環(huán)境、粒徑數(shù)據(jù)、水質(zhì)等級(jí),滿(mǎn)足半導(dǎo)體工廠(chǎng)水質(zhì)管控與溯源需求。該檢測(cè)方法適配連續(xù)在線(xiàn)監(jiān)測(cè)與實(shí)驗(yàn)室離線(xiàn)檢測(cè)兩種模式,可覆蓋半導(dǎo)體生產(chǎn)全流程水質(zhì)管控場(chǎng)景。
結(jié)合GB/T 11446標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)要求與半導(dǎo)體超純水檢測(cè)場(chǎng)景,普洛帝PMT-2超純水檢測(cè)設(shè)備可適配國(guó)標(biāo)檢測(cè)規(guī)范,設(shè)備內(nèi)置GB/T 11446系列標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)程序,兼容電子級(jí)水四個(gè)等級(jí)的顆粒檢測(cè)與判定。設(shè)備搭載第八代雙激光窄光檢測(cè)器,可精準(zhǔn)識(shí)別0.05μm以上微納米級(jí)顆粒,覆蓋國(guó)標(biāo)要求的全部檢測(cè)粒徑區(qū)間。
作為油液顆粒檢測(cè)領(lǐng)域技術(shù)創(chuàng)新者,普洛帝針對(duì)電子級(jí)水低雜質(zhì)、高純凈的特性,對(duì)PMT-2設(shè)備接液組件進(jìn)行惰性化優(yōu)化,避免設(shè)備材質(zhì)析出雜質(zhì)污染水樣,保障檢測(cè)真實(shí)性。設(shè)備支持水樣離線(xiàn)檢測(cè)與在線(xiàn)監(jiān)測(cè),檢測(cè)數(shù)據(jù)可自動(dòng)生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,符合GB/T 11446的數(shù)據(jù)溯源要求,適配半導(dǎo)體工廠(chǎng)超純水站、制程用水管路、終端用水點(diǎn)位的常態(tài)化檢測(cè)需求。
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)水質(zhì)合規(guī)管控中,嚴(yán)格遵循GB/T 11446標(biāo)準(zhǔn)開(kāi)展電子級(jí)水顆粒檢測(cè),是保障制程穩(wěn)定、產(chǎn)品合格的基礎(chǔ)。普洛帝PMT-2設(shè)備以合規(guī)的檢測(cè)性能,匹配不同等級(jí)電子級(jí)水檢測(cè)需求,為半導(dǎo)體行業(yè)純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)化管控提供可靠的設(shè)備支撐,助力行業(yè)制程品質(zhì)規(guī)范化升級(jí)。
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