場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡測(cè)試設(shè)備介紹，電子顯微鏡測(cè)試設(shè)備介紹SEM

 日本Hitachi在電子顯微鏡領(lǐng)域一向以技術(shù)潮流著稱：1972年發(fā)布臺(tái)場(chǎng)透射電子微鏡，經(jīng)過(guò)30多年的發(fā)展，日立開(kāi)發(fā)、應(yīng)用了大量的新技術(shù)，例如電子槍多重偏壓、浸沒(méi)式(In-lens)、半浸沒(méi)式(Semi In-lens)物鏡、E x B式探測(cè)器，電子減速功能等等。推出了一系列性能優(yōu)異、應(yīng)用廣泛的新型號(hào)電鏡，受到了用戶的*。Hitachi公司除在日本有自己的研法制造中心外，在北美和歐洲也擁有研究開(kāi)發(fā)中心，在六十多個(gè)國(guó)家經(jīng)營(yíng)銷售、和提供維修服務(wù)。 Hitachi公司將納米尺度呈獻(xiàn)給研究人員和生產(chǎn)廠商。

       在成功推出S-3000系列后，推出新型S-3400N型鎢燈絲SEM，它集成了Hitachi多年開(kāi)發(fā)的新技術(shù)，例如新型電子槍、大錐角物鏡、5分割半導(dǎo)體式背散射探頭、物鏡光闌自動(dòng)合軸等等，極大地提高設(shè)備的性能和應(yīng)用擴(kuò)展能力、使操作和維護(hù)更加簡(jiǎn)易。
      S-4800屬于場(chǎng)發(fā)射SEM，它集成S-4700和S-5200型的優(yōu)點(diǎn)，采用新型E x B式探測(cè)器和電子束減速功能提高了圖像質(zhì)量，特別是低電壓的圖像分辨率；新型的透鏡系統(tǒng)，提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距離模式、磁性樣品模式等多種工作模式。
     作為掃描電鏡配套的能譜分析儀器，我們供應(yīng)日本Horiba公司或美國(guó)EDAX公司的產(chǎn)品。

 S-4800場(chǎng)發(fā)射SEM系統(tǒng)：
1. 分辨率：二次電子（SE）成像：高真空模式：1.0 nm (15KV)、1.4~2.0 nm (1KV)2. 放大倍率：低倍模式20 ～2,000倍；高倍模式100 ～800,800倍
3. 電子槍：冷陰極場(chǎng)發(fā)射電子源，束流1pA–2nA；加速電壓：0.5～30 kV；3級(jí)電磁透射會(huì)聚系統(tǒng)
4. 樣品室可容納樣品左右直徑200 mm，同心樣品臺(tái)，四軸自動(dòng)，可安裝EDS、冷卻臺(tái)附件
5. 移動(dòng)大范圍：X = 110 mm /Y = 110 mm /Z =1.5~40.0mm /R=360°；傾斜T：范圍不小于-5°～70°(手動(dòng))
6. 探測(cè)器：二次電子檢測(cè)器、固體背散射電子檢測(cè)器；樣品室 IR-CCD 相機(jī)
7. 圖像掃描：不低于5120×3840像素；圖像顯示1280×960像素