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閱讀：41發(fā)布時(shí)間：2025-12-27
隨著生產(chǎn)工藝對(duì)物料、介質(zhì)的純度要求不斷提高，首先催生了不純物控制技術(shù)的發(fā)展，后以該技術(shù)為核心逐步演化成了——高純工藝系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程的不純物控制。
和傳統(tǒng)的制造業(yè)相比，泛半導(dǎo)體等現(xiàn)代制造業(yè)自誕生那刻起就一直朝精密化、微型化方向發(fā)展。從個(gè)晶體管到7納米的華為麒麟980，制程中的精細(xì)加工、精細(xì)控制一直是生產(chǎn)工藝的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，而在幾乎所有和"精細(xì)"相關(guān)的技術(shù)中，都繞不開(kāi)“雜質(zhì)"兩個(gè)字。
雜質(zhì)的危害性
在泛半導(dǎo)體等現(xiàn)代制造業(yè)中，雜質(zhì)對(duì)制程的結(jié)果都會(huì)產(chǎn)生不利甚為有害的影響。比如：在極低溫度（-270℃）下，微量的氧和水會(huì)變成堅(jiān)硬無(wú)比的固體，成為透平機(jī)的天敵；在手術(shù)中少量的病菌會(huì)產(chǎn)生致命的影響；微量的特種元素會(huì)改變鋼鐵的性能；空氣中懸浮的顆粒會(huì)影響精密加工儀器（陀螺儀）的性能；百萬(wàn)分之一以下的氧水含量會(huì)使大量的大規(guī)模集成電路芯片報(bào)廢。
高純工藝系統(tǒng)的發(fā)展不僅實(shí)現(xiàn)了對(duì)雜質(zhì)的控制，還能讓高純介質(zhì)不會(huì)因吸附氣體和水分、脫放氣、產(chǎn)生顆粒等原因受到污染，保證介質(zhì)純度，使介質(zhì)滿足生產(chǎn)工藝的純度要求。
從上面的簡(jiǎn)單描述中，想必你已經(jīng)明白雜質(zhì)在和"精細(xì)"相關(guān)的技術(shù)中的危害性是巨大的。高純工藝系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程的不純物控制。最后，感謝您的閱讀！
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