

在管道化溶出工段用 MPR E-Scan 在線測量苛堿 NK(NaO+KO),可實現(xiàn)實時閉環(huán)控制與結(jié)疤 / 能耗優(yōu)化;典型在線測量周期約 0.25 s,相對準確度約 ±0.5%,適用于循環(huán)母液、蒸發(fā)原液、溶出礦漿與閃蒸出口等點位。

光學折光法(nD):直接測量液相折射率,通過內(nèi)置 / 自定義模型轉(zhuǎn)換為 NK、RP 等關鍵參數(shù);無試劑、低維護,適應高溫、高堿與高固含量工況。
應用點位:循母線、蒸發(fā)原液、溶出隔膜泵進口礦漿、溶出閃蒸出口等。
指標
典型值
說明
測量周期 約 0.25 s 滿足快速閉環(huán)控制
相對準確度 約 ±0.25% 隨工況與標定樣本量波動
可測參數(shù) NK、RP、NC、NT 覆蓋主要堿液指標
適用介質(zhì) 苛性堿液、鋁酸鈉溶液 母液、礦漿、蒸發(fā)原液等
維護 低維護 無試劑、少易損件
點位
控制目標
關鍵作用
循環(huán)母液 NK、RP 穩(wěn)定循環(huán)效率、抑制結(jié)疤
蒸發(fā)原液 NK 優(yōu)化蒸發(fā)負荷與蒸汽消耗
溶出礦漿進口 NK 控制配堿與溶出率
溶出閃蒸出口 NK、RP 穩(wěn)定溶出終點、減少蒸發(fā)負荷
選型與配置
選擇帶在線自動清洗、高溫耐壓光學部件與工業(yè)通信接口的型號,適配母液 / 礦漿不同固含與溫度。
安裝
母液 / 清液:采用旁路流通池,保證滿管、層流與溫度穩(wěn)定;配置自動清洗與溫度補償。
礦漿:采用插入式探頭,選擇直管段、避開彎管 / 閥門擾動;兼顧耐磨與防堵。
標定與建模
采集≥20–30 組 “在線值 vs 實驗室滴定 / 比重法" 樣本,覆蓋正常與極值;用線性 / 多元回歸或廠商內(nèi)置算法建立 NK/RP 模型;建議每 8 小時≥2 次人工抽檢,出現(xiàn)漂移及時小樣本校正。
過程閉環(huán)與報警
接入 DCS/PLC,設置 NK 與變化率報警;聯(lián)動配料 / 加堿、蒸發(fā)溫度 / 壓力、溶出加熱段溫度 / 流量、真空泵與洗水系統(tǒng),形成前饋 + 反饋控制。
維護與抗干擾
保持探頭 / 流通池清潔;監(jiān)控溫度、壓力、流量、密度與固含波動,必要時引入溫度 / 密度 / 固含補償;定期檢查安裝穩(wěn)固性與電纜屏蔽。
提升溶出率與循環(huán)效率、降低蒸發(fā)能耗與結(jié)疤風險、減少維護停機與試劑消耗,助力工藝穩(wěn)定與節(jié)能減排。
光學法對溫度、密度、固含與顆粒分布敏感,需穩(wěn)定工況與定期校正以維持精度。
礦漿高固含 / 高磨損點位需選擇耐磨材質(zhì)與合適插入深度,必要時配合沖洗 / 自清洗以避免堵掛。
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