平行平晶是利用光波干涉現(xiàn)象測(cè)量平面度誤差的，故其測(cè)量方法稱為平晶干涉法,也稱技術(shù)光波干涉法。在測(cè)量的時(shí)候,把平行平晶放在被測(cè)表面上,且與被測(cè)表面形成一個(gè)很小的楔角 θ，以單色光源照射時(shí)會(huì)產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關(guān)。如果入射光線垂直于被測(cè)表面，并且平晶與被測(cè)表面間的間隙很小,則由平晶測(cè)量面P反射的光線與被測(cè)表面反射的光線在測(cè)量面 P發(fā)生干涉而出現(xiàn)明或暗的干涉條紋。若在白光下，則會(huì)出現(xiàn)彩色干涉條紋。如果干涉條紋平直，相互平行,并且分布均勻,則會(huì)表示被測(cè)表面的平面度很好；如果干涉條紋彎曲，則會(huì)表示平面度 不好。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)
λ為光波波長(zhǎng)，白光的平均波長(zhǎng)為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量，ω為干涉帶間距。
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