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MLase MLI 500 ArF SP LC

時間:2026/2/11閱讀:394
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德國MLase MLI 500 ArF SP LC準分子激光器:工業(yè)紫外光源的精密動力核心

在光纖布拉格光柵(FBG)刻寫、半導(dǎo)體掩膜檢測、精密微加工等工業(yè)與科研領(lǐng)域,穩(wěn)定可靠的深紫外(DUV)激光光源是實現(xiàn)高精度制造與測量的重要基礎(chǔ)。德國MLase公司出品的MLI系列準分子激光器,是適配此類嚴苛應(yīng)用的高性能光源;其中型號為MLI 500 ArF SP LC的設(shè)備,整合波長特性、功率穩(wěn)定與工業(yè)級可靠性,成為復(fù)雜工業(yè)流程中的核心配套單元。

產(chǎn)品核心:定制化ArF紫外光源

該設(shè)備是采用氟化氬(ArF)作為工作氣體的準分子激光器,輸出波長為193納米的深紫外光。其型號代碼“500"代表標準重復(fù)頻率為500赫茲,“LC"表明此型號配備主動液體冷卻系統(tǒng),可實現(xiàn)穩(wěn)定、連續(xù)的長時間運行;后綴“SP"指向特定的定制化配置,例如特殊脈沖模式或硬件接口。整機采用緊湊化、模塊化設(shè)計,可在標準型號基礎(chǔ)上根據(jù)個性化需求進行調(diào)整。

核心技術(shù)規(guī)格與性能

參數(shù)類別技術(shù)規(guī)格
波長與氣體類型193 nm,氟化氬 (ArF) 氣體
重復(fù)頻率max 500 Hz
脈沖能量(穩(wěn)定)6 mJ
平均輸出功率3.0 W
脈沖穩(wěn)定性 (Sigma)≤ 2%
光束尺寸 (FWHM)6 x 3 mm
光束發(fā)散角2 x 1 mrad
核心冷卻方式主動水冷(可使用生活用水或外部熱交換器)

關(guān)鍵技術(shù)優(yōu)勢

該系列激光器具備良好的工業(yè)可靠性,擁有較長的正常運行時間與較低的運行成本,內(nèi)部采用固體開關(guān)技術(shù),相較于傳統(tǒng)閘流管開關(guān),使用壽命更長、維護需求更低。同時具備優(yōu)異的能量與光束穩(wěn)定性,穩(wěn)定的脈沖能量輸出和均勻的光束輪廓,可確保加工結(jié)果具有良好的一致性與重復(fù)性,脈沖能量穩(wěn)定度(標準差)控制在2%以內(nèi),能夠為微米級工藝提供可靠保障。此外,“LC"型號集成的主動水冷系統(tǒng),允許直接使用普通生活用水進行冷卻,無需復(fù)雜的去離子水循環(huán)系統(tǒng),大幅簡化集成難度,提升工業(yè)現(xiàn)場長時間連續(xù)工作的熱管理能力。

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核心應(yīng)用領(lǐng)域

光纖布拉格光柵(FBG)刻寫是其核心應(yīng)用方向之一,可為光纖傳感器和通信器件制造提供高質(zhì)量光源;在半導(dǎo)體與顯示制造領(lǐng)域,可用于光刻掩膜版(Reticle)的缺陷檢測,以及微光學元件、TFT等精密結(jié)構(gòu)的加工與劃線;在材料加工方面,適配陶瓷、玻璃、聚合物及復(fù)合材料的精密微鉆孔、切割與表面結(jié)構(gòu)化處理;同時也可作為脈沖激光沉積(PLD)的適配光源,用于制備高溫超導(dǎo)、光學等多種功能薄膜,滿足科學研究與薄膜制備的應(yīng)用需求。

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