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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

深圳海創(chuàng)德科技有限公司


經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:73條

所在地區(qū):廣東深圳市

聯(lián)系人:瞿經(jīng)理

  • 低能電子槍,EGL-2022 / EGPS-2022

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1電子槍能量范圍:50eV~5keV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 中能電子槍,EGG-3101 / EGPS-3101

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1電子槍能量范圍:100eV~10keV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 中能電子槍,EGG-3103 / EGPS-3103

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1電子槍能量范圍:100eV~10keV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 低能電子槍,EGA-1012 / EGPS-1012

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1電子槍能量范圍:5eV~1keV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 低能電子槍,EFG-7/EGPS-2017

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1能量范圍:100eV~5000eV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 低能電子槍,EFG-7 / EGPS-1017

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1電子槍能量范圍:50eV~1500eV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 低能電子槍,ELG-2 / EGPS-1022

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1電子槍能量范圍:1eV~2keV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 低能電子槍,F(xiàn)RA-2X1-2 / EGPS-1011

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1電子槍能量范圍:5eV~1000eV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 熒光屏

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1使用高亮度的P22熒光材料(ZnS/Ag)

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  • 定制超高真空腔體

    詳細(xì)摘要: 規(guī)格參數(shù):1材質(zhì):316L,全金屬密封設(shè)計(jì)

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • CIGS太陽能電池鍍膜

    詳細(xì)摘要: CIGS薄膜太陽能電池具有光吸收能力強(qiáng),發(fā)電穩(wěn)定性好、轉(zhuǎn)化效率高,白天發(fā)電時間長、發(fā)電量高、生產(chǎn)成本低以及能源回收周期短等諸多優(yōu)勢,已成為新型太陽能電池的熱點(diǎn)發(fā)...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 桌面型真空退火爐-RTA

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):1基片尺寸:2~8英寸

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • PECVD&RIE聯(lián)合系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 矽碁還專為客戶定制過性價比的PECVD與RIE聯(lián)合系統(tǒng),該聯(lián)合系統(tǒng)采用統(tǒng)一的真空氣路及電控系統(tǒng),在實(shí)現(xiàn)多功能的前提下有效節(jié)省成本

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 反應(yīng)離子刻蝕(RIE/ICP-RIE)

    詳細(xì)摘要: 反應(yīng)離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓,通過產(chǎn)生的等離子體對樣品進(jìn)行化學(xué)和物理刻蝕

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • PEALD&CVD聯(lián)合鍍膜系統(tǒng)2

    詳細(xì)摘要: 矽碁科技利用PEALD和PECVD各自鍍膜的特點(diǎn)為用戶開發(fā)了PECVDPEALD聯(lián)合鍍膜系統(tǒng),用于半導(dǎo)體工藝中的薄膜封裝

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(HWCVD/HW-PECVD)

    詳細(xì)摘要: 熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(HotWireAssistedChemicalVaporDeposition,HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進(jìn)行薄膜化學(xué)氣相沉積,適...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 等離子體增強(qiáng)原子層沉積(PEALD)

    詳細(xì)摘要: 等離子體增強(qiáng)原子層沉積(PEALD)

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 量產(chǎn)型原子層沉積

    詳細(xì)摘要: 特殊的腔體設(shè)計(jì)和工藝設(shè)計(jì),可以使得ALD技術(shù)應(yīng)用于工業(yè)量產(chǎn),并且可以提高鍍膜效率

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • ICP增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(ICP-CVD)

    詳細(xì)摘要: 電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(ICPChemicalVaporDeposition,ICPVD)利用ICP線圈將反應(yīng)氣體高度離化,是的CVD可以在高溫下...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

  • 原子層沉積(ALD)

    詳細(xì)摘要: 原子層沉積(ALD)

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2023-01-14 在線留言

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