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薄膜生長速率測試儀

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更新時間:2026-09-17 10:04:47瀏覽次數(shù):4次

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產(chǎn)品簡介

薄膜生長速率測試儀

詳細(xì)介紹

詳細(xì)說明:

薄膜沉積生長速率監(jiān)控系統(tǒng),采用無損的激光技術(shù)實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學(xué)常量(n&k),可廣泛的應(yīng)用于金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統(tǒng)Sputtering和蒸發(fā)系統(tǒng)等薄膜沉積過程的實時原位監(jiān)控。

主要特點:

*實時薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)(n&k)分析,同時標(biāo)準(zhǔn)偏差統(tǒng)計分析;

*自動程序化校準(zhǔn);

*精密的實時反饋系統(tǒng);

*程序控制,可實時多層薄膜沉積監(jiān)控和控制;

*多Wafer監(jiān)控功能;

*Wafer基底旋轉(zhuǎn)監(jiān)控和控制功能;

*所有參量原位實時檢測;

*操作裝配簡單便捷;

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