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北京英格海德分析技術(shù)有限公司

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離子源

詳細(xì)摘要： A range of ion source options for residual gas analysis.
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-17 在線留言
分子束外延沉積速率監(jiān)測(cè)/控制系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： A system for multiple source monitoring in MBE deposition applications. For mole...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-17 在線留言
EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀

詳細(xì)摘要： A system for UHV analysis of neutrals, radicals and ions. Measures the ions, neu...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-17 在線留言
托卡馬克裝置殘余氣體分析質(zhì)譜儀

詳細(xì)摘要： A system for tokamak/torus fusion research. Measures the concentration of fusion...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-17 在線留言
超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀

詳細(xì)摘要： A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applications. Measures the ...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-16 在線留言
三級(jí)過濾高分辨四極質(zhì)譜儀

詳細(xì)摘要： A system for high precision scientific and process applications. Measures the pa...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-16 在線留言
殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀

詳細(xì)摘要： Systems for the examination of components present in a vessel or evolved from a ...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-16 在線留言
分子束外延殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀

詳細(xì)摘要： A residual gas system configured for molecular beam epitaxy applications. Measur...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-16 在線留言
IDP離子/分子分析質(zhì)譜儀

詳細(xì)摘要： A system for analysis of ions, neutrals and radicals in UHV desorption studies. ...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-16 在線留言