詳細(xì)摘要： PVATEPLA/TECHNICSGIGABATCH360M刻蝕機(jī)，2013年設(shè)備，等離子刻蝕系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-17 在線(xiàn)留言
青島佳鼎分析儀器有限公司
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青島佳鼎分析儀器有限公司
經(jīng)營(yíng)模式：經(jīng)銷(xiāo)商
商鋪產(chǎn)品：441條
所在地區(qū)：山東青島市
聯(lián)系人：銷(xiāo)售 （銷(xiāo)售經(jīng)理）
詳細(xì)摘要： PVATEPLA/TECHNICSGIGABATCH360M刻蝕機(jī)，2013年設(shè)備，等離子刻蝕系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： HITACHIKOKUSAIAsherRAM-8500ZX，針對(duì)于8英寸晶圓Asher設(shè)備，生產(chǎn)于1996年
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-15 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專(zhuān)有ICP源設(shè)計(jì)，為半導(dǎo)體制造商提供經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-15 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： Novellus二手翻新刻蝕系統(tǒng)Gamma2130，屬Asher類(lèi)設(shè)備，針對(duì)于12英寸(300mm)晶圓處理
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-14 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： AMAT二手刻蝕系統(tǒng)CenturaEnabler，于2010年開(kāi)始使用，采用氧化物刻蝕法，針對(duì)12英寸晶圓進(jìn)行處理
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-13 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： Axcelis二手刻蝕系統(tǒng)Integra于2012年投入使用，針對(duì)于12英寸晶圓的蝕刻處理
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詳細(xì)摘要： Hitachi日立二手刻蝕系統(tǒng)DM421P與1995年投入使用，針對(duì)于8英寸晶圓的刻蝕工藝
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-13 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： Mattson二手刻蝕設(shè)備ParadigmE于2012年開(kāi)始使用，針對(duì)于12寸晶圓的刻蝕處理
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-12 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： Mattson二手刻蝕系統(tǒng)ParadigmEXP于2010年投入使用，針對(duì)于12英寸晶圓的LightEtch工藝
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-12 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： TEL二手刻蝕設(shè)備TactrasVigus-0于2012年開(kāi)始使用
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詳細(xì)摘要： TEL刻蝕系統(tǒng)Tactras™是一種高度可靠的300毫米等離子蝕刻系統(tǒng)，可提高蝕刻工藝的工作效率
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詳細(xì)摘要： TEL刻蝕系統(tǒng)CertasLEAGA™是一種環(huán)保、高通量的氣體化學(xué)蝕刻系統(tǒng)，專(zhuān)為300毫米晶圓而設(shè)計(jì)，無(wú)需使用液體即可提供表面蝕刻和清潔
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詳細(xì)摘要： UNITY™Me在200毫米晶圓內(nèi)實(shí)現(xiàn)等離子蝕刻工藝的性?xún)r(jià)比，提供的可靠性和生產(chǎn)力
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詳細(xì)摘要： AMAT刻蝕設(shè)備CENTURADPS2，具有4個(gè)作業(yè)腔室，3個(gè)DPSII腔室和一個(gè)Axiom室，采用ASHERS過(guò)程工藝，針對(duì)于12英寸晶圓進(jìn)行高效處理
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詳細(xì)摘要： AMAT二手刻蝕設(shè)備Centura5200生產(chǎn)于1998年，針對(duì)于6-8英寸JMF形晶圓進(jìn)行刻蝕處理
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-12 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： AMAT等離子蝕刻機(jī)AME8100用于反應(yīng)離子氧化物、氮化物和抗蝕劑除渣的蝕刻
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詳細(xì)摘要： HITACHI二手翻新現(xiàn)貨刻蝕機(jī)M308AT采用金屬蝕刻工藝，針對(duì)于8英寸(200mm)尺寸的晶圓處理
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詳細(xì)摘要： LRCRainbowEtcher是全自動(dòng)在線(xiàn)單晶圓等離子/RIE蝕刻系統(tǒng)，可處理6英寸或8英寸晶圓，具有頂部或/和底部供電電極板、可編程電極間距和自動(dòng)非接觸式晶...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-12 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： LAMRESEARCH刻蝕系統(tǒng)TCP9400最初設(shè)計(jì)用于生產(chǎn)多晶硅蝕刻
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-12 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： Gasonics等離子刻蝕系統(tǒng)L3510設(shè)計(jì)用于半導(dǎo)體晶圓的灰化和清洗
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-12 在線(xiàn)留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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