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29億元!Intel曬最貴開箱:臺高NA光刻機已裝機

閱讀:175發(fā)布時間:2024-7-23

來源:網(wǎng)易新聞

快科技3月5日消息,Intel發(fā)布了一條特殊的開箱視頻,堪稱最貴:他們從ASML拿到的一臺高NA EUV光刻機,已經(jīng)開始在美國俄勒岡州希爾斯伯勒附近的工廠內(nèi)安裝了。 

這臺型號為Twinscan EXE:5000的光刻機著實是個龐然大物,運輸過程中動用了250個貨箱,總重約150噸,先用飛機從荷蘭運到俄勒岡州波特蘭,再用卡車分批次拉到工廠。 

目前安裝的還只是核心組件,全部搞定需要250多名ASML、Intel的工程師,耗時約6個月,然后還得花時間調(diào)試。 

這臺光刻機主要作為研究之用,將會在Intel 18A節(jié)點上進行測試,但大規(guī)模量產(chǎn)得等到剛剛宣布的Intel 14A節(jié)點上,時間預計2025-2026年左右 。 

該光刻機可以實現(xiàn)8nm的分辨率,而現(xiàn)有低NA光刻機單次曝光只能做到13nm,同時晶體管密度幾乎可以增加3倍。 

大家非常關心的價格上,ASML的說法是大約3.8億美元,但這只是起步價,更高配置自然更貴,Intel CEO帕特·基透露在4億美元左右,也就是逼近29億元。 

相比之下,低NA EUV光刻機約為1.83億美元。 

除了Intel,三星、臺積電、SK海力士也都訂購了高NA EUV光刻機,訂單有數(shù)十臺。










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