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電熱恒溫水浴鍋一列二孔

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  粉碎機(jī)

中型粉碎機(jī)

植物粉碎機(jī)

高速粉碎機(jī)
  電沙硲

調(diào)溫電沙硲

數(shù)顯電沙硲
  電熱恒溫水浴鍋

二列八孔

二列六孔

二列四孔

一列二孔

一列四孔

三控三溫

一列六孔

單孔
  離心機(jī)

離心機(jī)
  電熱恒溫水箱

大恒溫水箱

650T恒溫水箱

大三用恒溫水箱

小三用恒溫水箱

小恒溫水箱
  真空泵

大循環(huán)式多用真空泵

小循環(huán)式多用真空泵

旋片式真空泵
  電熱套

數(shù)顯磁力攪拌電熱套

調(diào)溫磁力攪拌電熱套

數(shù)顯聯(lián)式電熱套

調(diào)溫聯(lián)式電熱套
  磁力攪拌器

數(shù)顯磁力攪拌器

調(diào)速磁力攪拌器
  電熱板

可調(diào)電熱板
  純水機(jī)

純水機(jī)耗材

高流量純水機(jī)

去離子純水機(jī)

蒸餾水純水機(jī)

超純水純水機(jī)
  電熱蒸餾水器

20升/小時(shí)

10升/小時(shí)

5升/小時(shí)
  干燥箱

真空干燥箱

中、大鼓風(fēng)干燥箱

恒溫干燥箱

小鼓風(fēng)干燥箱
  移液器

移液器耗材

耐高溫消毒固定型

耐高溫消毒連續(xù)可調(diào)多道型

耐高溫消毒連續(xù)可調(diào)型

耐腐蝕連續(xù)可調(diào)型

連續(xù)可調(diào)型
  電爐

四聯(lián)電爐

萬(wàn)用電爐
  電阻爐

高溫箱式電阻爐

管式電阻爐

箱式電阻爐
  培養(yǎng)箱

恒溫恒濕培養(yǎng)箱

便攜式培養(yǎng)箱

人工氣候培養(yǎng)箱

光照培養(yǎng)箱

霉菌培養(yǎng)箱

隔水式培養(yǎng)箱
  玻璃儀器氣流烘干機(jī)

不銹鋼氣流烘干器

普通氣流烘干器

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)地	國(guó)產(chǎn)	加工定制	是

電熱恒溫水浴鍋一列二孔
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：Q/XCCKY004-2001《電熱恒溫水浴鍋》。
該標(biāo)準(zhǔn)經(jīng)北京市*科研標(biāo)準(zhǔn)審查備案，備查號(hào)：YYH2968。
該標(biāo)準(zhǔn)經(jīng)北京市*登記注冊(cè)，注冊(cè)號(hào)：XC0066-004。

詳細(xì)介紹

『產(chǎn)品說(shuō)明』電熱恒溫水浴鍋一列二孔

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：Q/XCCKY004-2001《電熱恒溫水浴鍋》。
該標(biāo)準(zhǔn)經(jīng)北京市*科研標(biāo)準(zhǔn)審查備案，備查號(hào)：YYH2968。
該標(biāo)準(zhǔn)經(jīng)北京市*登記注冊(cè)，注冊(cè)號(hào)：XC0066-004。
■ 適用范圍電熱恒溫水浴鍋一列二孔
供生產(chǎn)、科研、醫(yī)院和*等實(shí)驗(yàn)室作恒定溫度試驗(yàn)及蒸發(fā)濃縮之用。
■ 主體結(jié)構(gòu)
由箱體、內(nèi)膽、面板、燒杯圈、擱板、電熱管、智能型數(shù)字溫度控制儀組成。
工作室與外殼間均勻充填隔熱材料，外殼溫升不大于25℃。
■ 材料選用
箱體材料為A3鐵板。
內(nèi)膽、面板、燒杯圈材料為1Cr18Ni9Ti（國(guó)外牌號(hào)SUS304）不銹鋼板。
擱板材料為L(zhǎng)Y2鋁板。
箱體表面環(huán)氧粉末靜電噴塑，不銹鋼外露部分拋光，起到防腐、裝飾作用。

水浴鍋基本參數(shù)

產(chǎn)品型號(hào)	產(chǎn)品規(guī)格	額定功率（w）	溫度調(diào)節(jié)范圍（℃）	工作室有效容積（mm）
HH·S11-Ni1	單孔	300	室溫～沸點(diǎn)	180×180×90
HH·S11-Ni2	一列二孔	500		300×180×90
HH·S11-Ni4	一列四孔	1000		600×180×90
HH·S21-Ni4	二列四孔	1000		320×320×90
HH·S11-Ni6	一列六孔	1500		900×180×90
HH·S21-Ni6	二列六孔	1500		460×320×90
HH·S21-Ni8	二列八孔	2000		640×320×90
注1：孔蓋*開(kāi)啟時(shí)的有效尺寸為φ120mm,擱板至鍋口的有效尺寸為90mm。注2：配備一套燒杯圈的內(nèi)徑尺寸分別為φ100mm,φ76mm、φ56mm、φ42mm及蓋一個(gè)。注3：工作室容積為參考尺寸。