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微小零件的微納鍍層截面CP制備方法分享(精研一體機,離子束切割拋光儀)

閱讀:140發(fā)布時間:2025-1-13

機械零部件通過表面加工技術(shù),可使其獲得良好的力學性能、優(yōu)異的光學性能或者提高其對復雜的工作環(huán)境的耐受能力。通過各種噴涂、沉積等方法獲得鍍層是實現(xiàn)零部件表面性能提升的重要手段。獲得鍍層后,其厚度、均勻性、界面結(jié)合情況等信息,可通過對其進行適當?shù)慕孛嬷苽鋪慝@得。其中CP可地制備微米、甚至納米級別的鍍層截面。因此本次試驗以某毫米探針部件為樣品,通過離子束切割獲得無損的平整面,以滿足后續(xù)的SEM測試與分析。原試樣(尺寸不超過4mm)如下圖所示,需要測量箭頭所指平面的鍍層厚度,位置在任意方向直徑1/4處。
圖1. 試樣原貌
制備流程
鑲嵌
將樣品鑲嵌成約14X5X3mm大小的尺寸,如下圖2所示。
圖2. 鑲嵌后的試樣
機械研磨
樣品極小,用普通研磨機難以高效精準定位加工,因此使用徠卡精研一體機Leica EM TXP對樣品進行預處理,處理流程示意圖如下:
圖3. 樣品離子束加工前的TXP機械加工流程
左:樣品原始形貌,紅點為目標點;
左二:TXP加工去掉的多余截面部分;
右二:TXP加工去掉的多余側(cè)面部分;
右:TXP機械加工完成后
1. 樣品截面加工
使用徠卡EM TXP扁平樣品夾固定樣品,通過TXP加工截面,使目標位置與截面距離控制在20-100um范圍內(nèi),流程如下圖
圖4. TXP加工截面流程圖
2. 樣品坡面加工
使用徠卡EM TXP插件樣品夾固定樣品,調(diào)節(jié)樣品臂角度為-10°,通過TXP加工坡面,使目標位置與坡面距離控制在20-50um范圍內(nèi),流程如下圖
圖5. TXP加工側(cè)面流程圖
樣品離子束加工
圖6. TXP加工后的樣品離子束加工時的示意圖
圖7. 徠卡EM TIC3X樣品裝夾示意圖
樣品離子束加工結(jié)果
圖8. 徠卡EM TIC3X離子束加工效果(SEM)
小結(jié)
1、樣品極小,形狀不是簡單的長方體狀,且測試位置在樣品內(nèi)部,需用樹脂鑲嵌成易處理的長方體狀后切割。盡量選用與樣品切割速率相近的鑲嵌樹脂。
2、預處理用徠卡精研一體機EM TXP代替普通研磨機更高效精準,形狀尺寸按圖3所示加工后,才可大大提高離子束加工速率。
3、鍍層極薄,僅需沿厚度方向加工約30um即可。
本次試驗所用設(shè)備如下
Leica EM TXP 精研一體機
Leica EM TIC3X離子束切割拋光儀

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