大連藍(lán)天中意科技有限公司
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閱讀：29發(fā)布時間：2026-2-17
在線氬氣中痕量N2分析儀基于我們的增強(qiáng)等離子體放電（EPD）技術(shù)。與其他商用等離子技術(shù)相比，結(jié)合了我們獨特的聚焦/穩(wěn)定和電子注入電極和光譜補(bǔ)償技術(shù)。這些獨特的技術(shù)解決了由于流量和壓力變化引起的基線波動問題以及淬滅分子（如H2O） 對測量的影響，從而大大減少了漂移和噪聲。
個方法是通過提高電離效率來適當(dāng)控制等離子體中的能量。 這是通過我們的聚焦/穩(wěn)定和電子注入電極來實現(xiàn)的。 這解決了其他等離子技術(shù)仍受困擾的淬滅問題。
第二個方法使用光譜補(bǔ)償模式。 這由我們專有的嵌入式算法控制器控制，對用戶透明。 流量和環(huán)境壓力變化都會導(dǎo)致傳統(tǒng)等離子體發(fā)射技術(shù)的測量誤差。 這是由于等離子體中的功率分布的變化。 我們專有的嵌入式算法通過不斷調(diào)整功率分布并因此補(bǔ)償Bremsstrahlung（等離子基體發(fā)射）波動來克服該問題。 結(jié)果是消除了來自流量和壓力對等離子基體發(fā)射的影響。
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