| 詳細(xì)說明: | |||
|---|---|---|---|
| MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料,有一個(gè)水平石英管式爐。一個(gè)催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入,在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。 1)石英管尺寸:OD50×ID46×L1200mm 2)加熱區(qū)尺寸:φ50×L260mm 3)操作溫度:1200 ℃ 4)正常使用溫度范圍:400-1100 ℃ 5)程序化PID溫度控制 6)三路氣體源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar) 7)旋轉(zhuǎn)真空泵,抽速20L/min 8)熱電偶實(shí)時(shí)監(jiān)測樣品溫度 9)快速加熱和制冷系統(tǒng) 10)手動管式爐滑動系統(tǒng),滑動距離300mm 11)設(shè)備尺寸:W1400×H1000×D500mm |




































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