Ontech870三級冷阱大氣預濃縮儀是一款超低濃度的VOCs大氣預濃縮儀。采用液氮深度冷凍加之核心冷阱技術，其濃縮倍率大于1000：1，可搭配任何款式的GC或GC-MS，可連續(xù)在線監(jiān)測環(huán)境空氣中的揮發(fā)性有機化合物，符合國標HJ759-2015、EPATO-14和TO-15方法的要求。獨特的硬件和軟件設計使其能夠更加有效的處理各種氣體樣品。

Ontech870采用目前3級冷阱技術，冷凍溫度可達-190℃。其中一級冷阱高效除水；二級冷阱吸附劑組合、高效富集、閃蒸解析；三級聚焦阱深度冷凍，再以大于20 00℃/min 的升溫速率，極速氣化進入GC，配合發(fā)明解析技術。設備擁有的溫度控制系統(tǒng)，控溫精度可達±2℃，使分析更加穩(wěn)定和準確，峰型分離。創(chuàng)新設計的主機集成16位自動進樣器，免去配置自動進樣器的費用，一站提高工作效率。

硬件特點：

◎ 獨特三級冷阱技術，一級除水阱，二級富集阱，三級深冷聚焦阱；

◎ 高速氣化，升溫速率達到2000°C/分鐘，搭配發(fā)明解析技術，使得化合物分離的同時峰型變窄變高；

◎ 標配獨立的標氣和內標進樣口及14個進樣口（可定制），還可增配外置自動進樣器，增加至29個氣路，可接蘇瑪罐或氣袋實現批量樣品的自動進樣功能；

◎ 結構創(chuàng)新，可節(jié)省20%的液氮（獨特創(chuàng)新）

◎ 可靠的結構設計：樣品管路全惰性化處理，從樣品接頭到內部電磁閥閥體全程高溫加熱，真正做到樣品全程伴熱，無冷點無吸附（樣品口接頭伴熱）；

◎ 濃縮倍率大于1000：1；

◎ 高效除水阱，在除去樣品中水的同時，保留了溶于水中極性化合物，因此可濃縮PAMS57種標樣還可濃縮TO-15 65種標樣，解決了采用滲透膜除水，只能濃縮PAMS 57種標樣，不能濃縮TO-15標樣；

◎ 穩(wěn)定的RJ45接口連接，友好的全中文軟件界面。

軟件特點：

◎ 控制軟件操作簡單，功能，特別對于缺少預濃縮使用經驗的用戶，易于使用；

◎ 高精度MFC電子計量，技術成熟可靠，獨特算法設計，可避免普通MFC啟動

◎ 解決了存在的流量不準難題，無需真空罐，使用便捷、靈活。

◎ 方法編輯功能靈活，運行時間流程全程自定義，可針對不同樣品和分析需求；

◎ 數據記錄、導出功能，支持各項備注；

◎ 可搭配任何款式的GC或GC-MS

◎ 預置HJ759-2015，TO-14，TO-15，PAMS和有機硫化物方法；

◎ 定義或修改方法，不需要改變硬件，使客戶優(yōu)化和開發(fā)更多的方法成為可能；

◎ 直觀的氣路圖形化顯示：閥狀態(tài)、冷阱溫度和氣體流速，氣體流向；

◎ 的序列控制，全面的QA/QC報告；

◎ 全面支持WindowsXP及以上各版本的32或64位系統(tǒng)。

成品特性：

硬件

• 開關電源設計Switch on/off Power Design；

軟件

直觀的氣路圖形化顯示 Visualized Gas Path graphical display：閥狀 態(tài)、冷阱溫度和氣體流速，氣體流向

• 的溫控系統(tǒng)

• 全面的QA/QC報告

• 樣品運行周期短；

• 全面支持Windows系統(tǒng)；

• 一鍵執(zhí)行很多常用功能：重設，運行，系統(tǒng)吹掃，冷阱清洗，高溫沖洗樣品管線。

• 支持正壓和負壓兩種泄露檢測方式，自動生成檢漏報告。

Ontech870三級冷阱大氣預濃縮儀規(guī)格：

三級冷阱;

◎ 一級除水阱：-190°C~ 300°C；

◎ 二級富集阱：-190°C~ 300°；

◎ 三級冷聚焦阱：-190°C~ 300°C；升溫速率＞2000°C/分鐘。靈敏度和濃縮范圍

◎ 濃縮比率：＞1000:1；

◎ 檢測下限：0.1ppbv

◎ 重現性RSD：≤3%（90%以上的化合物）。

樣品處理能力:

◎ 所有管線均為硅烷化不銹鋼材質

◎ 進樣范圍：4-2000ml（0-99%相對濕度），4ml以下支持定量環(huán)進樣；

◎ MFC流量范圍：5-200ml/min，精確度±2%（標準配置）；

◎ 溫控精確度±2℃，升溫速率360℃/min（第三級大于2000℃/min）

進樣口

◎ 獨立的內標和標氣進樣口，配置13個附加進樣口

◎ 可選配自動進樣器（16個進樣口）。

三步除水:

◎ 在樣品由冷阱1向冷阱2轉移時，控制冷阱1的溫度和轉移氣流的流量來保留部分水于冷阱1中；

◎ 冷阱2選用合適的吸附材料，控制其溫度，從而避免水和CO2的吸附；

◎ 聚焦器加熱進樣控制

a．在加熱箱中預熱N2

b．熱的N2穿過聚焦管的外部以快速加熱（超過2000℃/min）

c．部分水被保留在聚焦器中，可在GC分析結束后選擇性二次加熱去除滯留的水。