一、產(chǎn)品概述

GMSD2000 氧化鋁水性漿料分散機(jī)屬于管線(xiàn)式一體化研磨分散裝備，融合錐形膠體研磨與多級(jí)高剪切分散復(fù)合結(jié)構(gòu)，整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊、動(dòng)平衡精度高，支持密閉連續(xù)化長(zhǎng)期運(yùn)行。設(shè)備集粉體潤(rùn)濕、硬團(tuán)聚破碎、濕法研磨、超細(xì)解聚、固液均質(zhì)多重功能于一體，可對(duì)納米氧化鋁、高純氧化鋁粉體與去離子水、分散劑、粘結(jié)劑體系漿料連續(xù)精加工，高效打散粉體氫鍵團(tuán)聚團(tuán)塊，獲得粒徑分布窄、懸浮穩(wěn)定性?xún)?yōu)異的氧化鋁水性漿料。設(shè)備適配不同固含量水性氧化鋁漿料加工，廣泛應(yīng)用于鋰電隔膜陶瓷涂層、精密陶瓷、CMP 拋光液、導(dǎo)熱填料漿料等領(lǐng)域，滿(mǎn)足新材料濕法制漿自動(dòng)化連續(xù)生產(chǎn)需求。 物料接觸面采用 316L 不銹鋼，可選耐磨涂層定制；整機(jī)支持防爆配置，配備夾套溫控、耐腐蝕全氟密封、循環(huán)冷卻機(jī)械密封，適配無(wú)塵化工車(chē)間，支持 24 小時(shí)不間斷穩(wěn)定作業(yè)。 

二、工作原理

 電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)，漿料連續(xù)吸入腔體，依次經(jīng)過(guò)一級(jí)錐面研磨腔、二級(jí)中剪切、三級(jí)精細(xì)分散腔遞進(jìn)處理。物料在可調(diào)精密間隙內(nèi)承受擠壓研磨、高速液力剪切、湍流撞擊、撕裂分散復(fù)合作用力；先依靠研磨結(jié)構(gòu)破碎氧化鋁粉體硬性團(tuán)聚顆粒，再通過(guò)多級(jí)定轉(zhuǎn)子剝離粉體軟團(tuán)聚，促使氧化鋁原生顆粒充分潤(rùn)濕，均勻分散于水相體系。多層齒形定轉(zhuǎn)子杜絕物料短路直排，所有漿料完整經(jīng)過(guò)研磨分散單元，避免粗顆粒直接流出。 工藝適配氧化鋁水性漿料循環(huán)制漿工藝，對(duì)接預(yù)混釜后端精加工，改善漿料顆粒粗大、靜置沉降、涂布針孔、涂層厚薄不均等痛點(diǎn)。 

三、 氧化鋁水性漿料分散機(jī)核心技術(shù)參數(shù)

 四、氧化鋁水性漿料加工核心優(yōu)勢(shì)

 1. 研磨 + 分散復(fù)合結(jié)構(gòu)，高效破除氧化鋁團(tuán)聚先研磨破碎粉體硬結(jié)塊，再多級(jí)剪切剝離納米氧化鋁軟團(tuán)聚，相比單一高剪切設(shè)備解聚能力更強(qiáng)，有效減少漿料粗大顆粒，降低隔膜涂布、流延成型針孔缺陷。 2. 梯度作用力設(shè)計(jì)，規(guī)避粉體過(guò)度破碎遞進(jìn)式研磨分散，合理控制機(jī)械作用力，避免氧化鋁原生顆粒被過(guò)度粉碎，穩(wěn)定粉體粒徑區(qū)間，保障涂層致密度、導(dǎo)熱性能與漿料流變特性。 3. 縮短制漿周期，提升漿料批次一致性配套配料釜循環(huán)精加工，彌補(bǔ)普通攪拌僅宏觀混合、微觀分散不足的短板，大幅縮短均質(zhì)時(shí)間，縮小不同批次漿料粘度、粒徑差異。 4. 密閉管路加工，保障漿料潔凈度全程密閉管道輸送，杜絕粉體二次團(tuán)聚與外界雜質(zhì)污染；配套溫控系統(tǒng)控制剪切溫升，防止分散劑失效；防爆配置適配新材料車(chē)間安全生產(chǎn)要求。 5. 間隙可調(diào)，適配多種氧化鋁配方研磨腔體間隙可精準(zhǔn)調(diào)節(jié)，靈活適配微米氧化鋁、納米高純氧化鋁、鋰電涂層氧化鋁、拋光氧化鋁等不同體系漿料工藝調(diào)試。 6. 模塊化結(jié)構(gòu)，清洗便捷，降低交叉污染腔體，支持 CIP 在線(xiàn)清洗；研磨頭、分散定轉(zhuǎn)子拆裝簡(jiǎn)易，方便切換不同規(guī)格氧化鋁粉體漿料生產(chǎn)。  五、典型應(yīng)用物料

• 鋰電隔膜納米氧化鋁水性陶瓷涂層漿料 

• 高純氧化鋁精密陶瓷水基漿料 

• 氧化鋁 CMP 拋光液、導(dǎo)熱氧化鋁填料分散液 

• 超細(xì)氧化鋁懸浮液、氧化鋁粉體水性預(yù)分散漿 

• 電子陶瓷、流延工藝氧化鋁水基漿料

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