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托托科技高精度3D光刻設(shè)備

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2017年創(chuàng)立以來(lái),托托科技始終深耕于精密光學(xué)儀器的研發(fā)和制造。公司憑借在微納光學(xué)加工及檢測(cè)領(lǐng)域的深厚積淀,打造了覆蓋無(wú)掩模光刻、高精度3D光刻、磁學(xué)檢測(cè)、光電檢測(cè)及3D顯微鏡五大核心產(chǎn)品線的技術(shù)矩陣,構(gòu)建了設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造、銷(xiāo)售及咨詢服務(wù)的全鏈條生態(tài)體系,以綜合實(shí)力持續(xù)為行業(yè)提供高品質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)。

依托前沿技術(shù)與細(xì)致化設(shè)計(jì),托托科技通過(guò)持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新,積極推動(dòng)光電子技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)化落地,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、清潔能源、消費(fèi)電子、精密制造等關(guān)鍵領(lǐng)域。托托科技致力于為各行各業(yè)高質(zhì)量發(fā)展提供高精度、高效率的光學(xué)解決方案,助力產(chǎn)業(yè)升級(jí)與突破。

Founded in 2017, TuoTuo Technology has always been committed to the development of high-end precision optical instruments. With a solid foundation in Micro and Nano  optical processing and detection, the company has developed an advanced technology matrix covering five core product lines: maskless lithography, high-precision 3D lithography, magnetic detection, photoelectric detection, and 3D microscopes. It has also established a full-chain ecosystem for design, R & D, manufacturing, sales, and consulting services, continuously providing the industry with high-quality products and services through its outstanding comprehensive strength.


Relying on cutting-edge technology and meticulous design, TuoTuo Technology actively promotes the industrialization of photo-electronic technology through continuous innovation. Its products are widely used in key areas such as semiconductor, biomedicine, clean energy, consumer electronics, and precision manufacturing. TuoTuo Technology is dedicated to providing high-precision and high -efficiency optical solutions for the high-quality development of various industries, helping to drive industrial upgrades and breakthroughs.


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上海交大聲學(xué)傳感新突破——托托科技高精度3D光刻設(shè)備
近日,上海交通大學(xué)電氣工程學(xué)院團(tuán)隊(duì)在電暈放電聲波檢測(cè)領(lǐng)域取得重要進(jìn)展,其研究成果以“Acoustic Wave Radiation Simulation and Broadband Acoustic-Enhanced Sensing of Corona Discharge”為題,發(fā)表于《 ?IEEE TDEI? 》。
托托科技高精度3D光刻設(shè)備 產(chǎn)品詳情

上海交大聲學(xué)傳感新突破——托托科技高精度3D光刻設(shè)備

近日,上海交通大學(xué)電氣工程學(xué)院團(tuán)隊(duì)在電暈放電聲波檢測(cè)領(lǐng)域取得重要進(jìn)展,其研究成果以Acoustic Wave Radiation Simulation and Broadband Acoustic-Enhanced Sensing of Corona Discharge為題,發(fā)表于《IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation》。該研究建立了電-熱-聲多物理場(chǎng)耦合仿真模型,揭示了負(fù)電暈放電過(guò)程中空間電荷擾動(dòng)激發(fā)的超聲輻射機(jī)制,并據(jù)此設(shè)計(jì)并優(yōu)化了一種寬帶聲學(xué)增強(qiáng)聚焦結(jié)構(gòu),顯著提升了局部放電(PD)聲學(xué)檢測(cè)的靈敏度。

在這一研究中,托托科技的高精度3D光刻設(shè)備為聲學(xué)菲涅爾透鏡的制備提供了關(guān)鍵制造支持,助力團(tuán)隊(duì)完成了從仿真優(yōu)化到實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證的工程閉環(huán)。

托托科技高精度3D光刻設(shè)備

 .聲學(xué)菲涅爾透鏡樣品形貌圖集成傳感器結(jié)構(gòu)示意圖

研究背景:電暈放電檢測(cè)的聲學(xué)瓶頸

電暈放電是高壓電力設(shè)備中常見(jiàn)的局部放電形式,長(zhǎng)期存在會(huì)加速絕緣材料老化,甚至引發(fā)設(shè)備故障。超聲檢測(cè)是目前主流的非接觸式檢測(cè)手段,但由于超聲波在空氣中衰減嚴(yán)重,且遠(yuǎn)距離檢測(cè)時(shí)信噪比急劇下降,傳感器自身的聚波性能已接近技術(shù)瓶頸,研究外置式聲學(xué)聚焦增強(qiáng)結(jié)構(gòu)、在聲波進(jìn)入傳感器前完成聲能匯聚,已經(jīng)成為主流研究方向。

平面聲學(xué)菲涅爾透鏡憑借輕薄、易集成的優(yōu)勢(shì)受到關(guān)注,現(xiàn)有研究證實(shí)其在單頻/窄帶平面波激勵(lì)下具備良好聚焦效果。然而,電暈放電產(chǎn)生的聲波屬于寬帶復(fù)雜聲場(chǎng),傳統(tǒng)菲涅爾透鏡存在寬帶適配性差的問(wèn)題。因此,研發(fā)兼具高效率與寬頻特性的聲學(xué)聚焦結(jié)構(gòu),是亟待解決的。

技術(shù)創(chuàng)新:從多物理場(chǎng)仿真到寬帶聲學(xué)聚焦結(jié)構(gòu)

研究團(tuán)隊(duì)首先構(gòu)建了負(fù)電暈放電的電-熱-聲耦合模型,從微觀層面揭示了脈沖放電→局部熱沉積→超聲輻射的完整能量轉(zhuǎn)換鏈。仿真結(jié)果表明,聲能主要分布在20kHz–100kHz的超聲頻段。

基于這一頻譜特性,團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)了一種復(fù)合增強(qiáng)型聲學(xué)聚焦結(jié)構(gòu),將聲學(xué)菲涅爾透鏡與聚焦腔體一體化集成,并采用EGO全局優(yōu)化+NM局部細(xì)化的混合優(yōu)化算法,對(duì)結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行反演設(shè)計(jì)。最終實(shí)現(xiàn)了在目標(biāo)頻帶內(nèi)平均聲壓增益6dB,峰值增益10.2dB的優(yōu)異性能。

托托科技高精度3D光刻設(shè)備

 .聲學(xué)增強(qiáng)聚焦結(jié)構(gòu)二維截面示意圖和優(yōu)化后聚焦結(jié)構(gòu)聲學(xué)性能對(duì)比圖


實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證:寬帶聚焦性能與放電信號(hào)增強(qiáng)

在等效聲學(xué)實(shí)驗(yàn)中,集成該透鏡的傳感器在20–100kHz頻段內(nèi)實(shí)現(xiàn)了平均聲壓放大138.2%,峰值放大272.8%,驗(yàn)證了其在寬帶范圍內(nèi)的穩(wěn)定聚焦能力。

在實(shí)際針尖放電實(shí)驗(yàn)中,安裝透鏡的傳感器相比未安裝者,接收到的聲能積分增強(qiáng)約48.99%,顯著提升了局部放電信號(hào)的采集能力。

托托科技高精度3D光刻設(shè)備

 .加裝 / 未加裝透鏡的不同頻率下性能對(duì)比和傳感器采集聲波的頻域分布圖


托托科技高精度3D光刻設(shè)備:精準(zhǔn)制造聲學(xué)菲涅爾透鏡

在這一研究中,優(yōu)化后的聲學(xué)菲涅爾透鏡樣品托托科技的高精度3D光刻設(shè)備制備。該設(shè)備具備微米級(jí)成型能力,能夠精確加工出透鏡所需的環(huán)形區(qū)域?qū)挾?、間距等關(guān)鍵微觀結(jié)構(gòu),匹配了聲學(xué)透鏡對(duì)尺寸精度的嚴(yán)苛要求。

托托科技高精度3D光刻設(shè)備

 

超高精度:托托科技提供1?, 2?, 5, 10, 20?μm精度及多精度融合設(shè)備,靈活適配不同分辨率需求的科研與工業(yè)場(chǎng)景。

復(fù)雜結(jié)構(gòu)一體化成型:無(wú)需組裝,直接打印,直接制造微米級(jí)曲面、懸垂、腔體結(jié)構(gòu)。

材料兼容性廣:支持多種光敏樹(shù)脂及陶瓷前驅(qū)體,滿足不同性能需求。

快速交付:數(shù)小時(shí)內(nèi)完成設(shè)計(jì)迭代,大幅縮短研發(fā)周期。

一項(xiàng)突破性研究的背后,離不開(kāi)每一個(gè)環(huán)節(jié)的精準(zhǔn)落地。托托科技很榮幸能夠?yàn)樯虾=煌ù髮W(xué)團(tuán)隊(duì)提供關(guān)鍵制造支持,讓聲學(xué)菲涅爾透鏡從優(yōu)化模型走入真實(shí)實(shí)驗(yàn)。

未來(lái),托托科技將繼續(xù)深耕高精度3D光刻技術(shù),為電氣工程、微機(jī)電系統(tǒng)、生物芯片、仿生材料等領(lǐng)域的科研工作者提供可靠、高效的制造平臺(tái),助力更多“從0到1”的突破。

DOI: 10.1109/TDEI.2026.3696924

關(guān)鍵詞:絕緣材料
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