一、 50g真空磁懸浮熔煉爐設(shè)備簡介
　　真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和高材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、 50g真空磁懸浮熔煉爐設(shè)備原理

真空磁懸浮熔煉方法，是通過高頻或中頻交變磁場，在金屬熔煉中形成與重力相抵消的電磁力，使熔體懸浮，與坩堝內(nèi)壁脫離方法是一項集電磁學、流體學、熱力學、力學、物理化學及冶金等多學科于一體的綜合冶金技術(shù)。因此受到了人們廣泛的觀注，在許多材料制備領(lǐng)域得到應(yīng)用。由于磁懸浮的作用，使熔體與坩堝內(nèi)壁脫離接觸，這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導散熱改為輻射散熱，從而導致散熱速度聚減，使熔體可達到很高的溫度（1700～2500℃），宜于熔煉高熔點金屬或其合金。更重要的方面是：熔煉時爐料的懸浮將有效防止爐料與坩堝壁接觸所帶來的污染。宜于獲得高純度或極活潑的金屬。

三、 50g真空磁懸浮熔煉爐主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率：≤30Kw

2、容量：水冷銅坩堝，30-50g（以鋼液計算）

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.7×10E-4Pa

5、熔煉溫度≥2200℃（根據(jù)材料熔點不同熔煉溫度不同）

6、可充保護氣≤0.03Mpa

7、控制方式：操作模擬屏+PLC,配置手動操作按鈕

8、操作模式：主要閥門氣動、電動