IKEIDARIKA池田理化正電子光譜TypeL-II-AS
IKEIDARIKA池田理化正電子光譜TypeL-II-AS
PSA TypeL-II ,TypeL-II-AS,PSA TypeL-P
正電子壽命光譜是一種非破壞性和高度靈敏的方法,用于評估原子級缺陷、分子間空隙和空位結構。L-II型是可以高精度測量小型試件的機型,主要面向研究開發(fā)現(xiàn)場使用。與用于現(xiàn)場測量的LP型相比,它在測量精度和測量效率方面具有優(yōu)勢。L-II-AS型是在L-II型上安裝了進樣器機構的型號。連續(xù)測量固定形狀的樣品時,無需更換樣品即可高效獲取數(shù)據(jù)。
正電子壽命測定法是評價空位型晶格缺陷、分子間空隙等微小空隙的非破壞性、高靈敏度的方法。這些微孔的測量實例有很多,作為材料劣化行為的有用評價指標,無論它們是金屬還是聚合物。
該設備PSA TypeL-P主要針對現(xiàn)場測量,具有比標準型號(PSA TypeL-II)更小、更輕的專門結構。此外,利用新技術"反符合系統(tǒng)",可以進行現(xiàn)場測量,甚至可以對大型結構進行非破壞性測量。
特征:
可以進行亞納米級的微孔評價(測量對象:金屬、聚合物等)。
無損測量。
可用手機電池供電。
緊湊輕巧的結構(單手即可攜帶)。



































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