
TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)的一種大型分析儀器,主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參數(shù)、測定殘余應力、研究板材、棒材的結(jié)構(gòu)、研究未知物質(zhì)的結(jié)構(gòu)和單晶位錯等。
特點
TDF型晶體分析儀采用立式管套,四個窗口可以同時使用。
X射線晶體分析儀采用進口PLC控制技術(shù),控制精度高、抗干擾性好,可實現(xiàn)本系統(tǒng)可靠地工作,PLC控制高壓的開關(guān)、升降、具有自動訓練X光管的功能,有效的延長X射線管及儀器的使用壽命。
高壓發(fā)生器
- 管電壓:10-60KV
- 管電流:2-80mA
- 管電壓、管電流穩(wěn)定度0.3‰
- 額定輸出功率:5KW
- 具有無壓、過壓、無毫安、過功率、無水、X光管超溫等保護
- 功率范圍可通過PLC文本顯示器任意設(shè)置
- 工作時間設(shè)置范圍:0-999min
X射線管
- 額定功率:2KW
- 焦點尺寸(mm):點焦點(1*1)線焦點(1*10)
- 靶材:Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等
高壓電纜
- 介電電壓≥100KV
- 長度:2M
X射線防護罩
采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線防護罩,外射線量不大于0.1µ Sv/h
X射線照相機
- 勞厄相機(大小粉末)
- 平板相機
- 三維樣品臺
- 美國Multiwire相機

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