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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷(xiāo)售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí)，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書(shū)。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。

另外公司還是美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 德國(guó) 普發(fā) Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 美國(guó) HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本 Atonarp過(guò)程質(zhì)譜儀和美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	否	適用領(lǐng)域	其他

上海伯東離子源典型應(yīng)用: 安裝在小型離子蝕刻機(jī)中的 KRI 霍爾離子源 EH 400 HC, 對(duì) 2英寸硅芯片蝕刻,霍爾離子源典型應(yīng)用 IBE 離子刻蝕

霍爾離子源典型應(yīng)用 IBE 離子刻蝕鍍膜機(jī) 產(chǎn)品詳情

離子源應(yīng)用于離子刻蝕 IBE
上海伯東代理美國(guó)考夫曼 KRI 離子源, 其產(chǎn)品霍爾離子源 EH400 HC 成功應(yīng)用于離子蝕刻 IBE.
霍爾離子源離子抨擊能量強(qiáng), 蝕刻效率快, 可因應(yīng)多種基材特性, 霍爾源單次使用*, 耗材成本極低, 操作簡(jiǎn)易, 安裝簡(jiǎn)易, 因此美國(guó)考夫曼霍爾離子源廣泛應(yīng)用于蝕刻制程及基板前處理制程.

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系統(tǒng)功能: 對(duì)于 Fe, Se, Te ,PCCO 及多項(xiàng)材料刻蝕工藝.
樣品尺寸: 2英寸硅芯片.
刻蝕設(shè)備: 小型刻蝕設(shè)備. 選用上海伯東美國(guó)考夫曼品牌霍爾離子源 EH400 HC
上海伯東離子源 EH400HC
霍爾離子源 EH400HC 安裝于刻蝕腔體內(nèi)
上海伯東美國(guó)考夫曼離子源
離子源 EH400HC 自動(dòng)控制單元
上海伯東美國(guó)考夫曼離子源控制器
霍爾離子源 EH400HC 通氬氣
離子源通氬氣
對(duì)于 FeSeTe 刻蝕應(yīng)用, 霍爾離子源 EH400HC 條件: 110V/1.5A, 刻蝕速率 >20 A/Sec
上海伯東考夫曼離子源蝕刻速率
對(duì)于 FeSeTe 刻蝕應(yīng)用, 霍爾離子源 EH400HC 條件: 110V/1.5A, 刻蝕速率 >17 Å/Sec
上海伯東美國(guó)離子源蝕刻速率

鑒于信息保密. 更詳細(xì)的離子源應(yīng)用歡迎

霍爾離子源 EH400HC 特性:
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鍍膜均勻性佳
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關(guān)鍵詞：控制單元

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