MATRIX-F傅立葉近紅外光譜儀

實時關注生產(chǎn)過程

      傅立葉近紅外分析技術(shù)的實時在線監(jiān)控的優(yōu)勢已*。然而，傳統(tǒng)的光譜儀只能安裝在靠近監(jiān)控生產(chǎn)線的地方，這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環(huán)境中。而且，測量點有時很難接近，甚至是防爆等危險區(qū)。

      通過利用光纖技術(shù)，MATRIX-F 主機可與實測點相距數(shù)百米，將探頭直接安裝在采樣點，大大簡化了工業(yè)現(xiàn)場測試的難度。此外，當環(huán)境特別惡劣時可將主機置于帶空調(diào)的工業(yè)小屋內(nèi)，這樣可以消除溫度影響，進一步優(yōu)化光譜儀的性能，還可以保護 MATRIX-F，防止其遭受過度污垢和灰塵。

效用更大化MATRIX-F傅立葉近紅外光譜儀

      MATRIX-F 是可用一臺儀器就可對物料進行接觸式測量和非接觸式測量的光譜儀。有不同的測量附件可供使用：

?   光纖探頭： 可根據(jù)需要配置漫反射、透反射或不同光程長度的液體透射探頭，以及流通池或其他試驗性裝置。還可根據(jù)物料性質(zhì)選擇配置不同材質(zhì)的探頭，如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷。

?   非接觸式測量的發(fā)射探頭：非接觸式發(fā)射探頭內(nèi)置鎢燈光源，可以直接照射樣本，并將收集的散射漫反射光通過光纖傳輸至光譜儀。通過這種方式，可以進行遠程非接觸式測量，實現(xiàn)一系列全新應用。它可以提供多達六個流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F duplex。

簡要介紹：

      Bruker 的 MATRIX-I 采用傅立葉變換近紅外技術(shù)，為滿足你的質(zhì)量保證／質(zhì)量控制需求，提供*的解決方案。
      MATRIX-I 是專為工業(yè)現(xiàn)場質(zhì)量保證／質(zhì)量控制分析而設計的堅固的傅立葉交換近紅外光譜儀。 該系統(tǒng)采用了獲得 R&D 100 金獎的 MATRIX-F 光譜儀的設計理念。該儀器配有積分球，可以快速方便地采用漫反射技術(shù)進行分析。樣品可以在其容器或者是倒入標準的樣品杯中直接進行測量。此方法是分析群體樣品的理想之選，尤其是在不均勻的樣品或大顆粒樣品分析中更具顯著優(yōu)勢，例如谷物或種子。