昆山國華等離子清洗設(shè)備去鉆污凹蝕
當(dāng)前去鉆污方法很多，分干法和濕法兩種，干法處理是在真空環(huán)境下通過等離子除去孔壁內(nèi)鉆污。此法需要專門的等離子體處理設(shè)備，處理成本高，一直在處理撓性多層板、剛撓結(jié)合多層板、聚酰亞胺多層板和微小孔徑的剛性多層板時使用。濕法處理包括濃硫酸、弄酪酸、*和PI調(diào)整處理，酪酸除鉆污由于存在嚴(yán)重的環(huán)境污染問題，現(xiàn)在基本無人采用了。常用的處理方法有濃硫酸、堿性*處理，PI調(diào)整處理法正在研究中，并已取得了很好的效果。濃硫酸法和堿性*法用來處理剛性板，PI調(diào)整法用來處理撓性板。下面是介紹用等離子體在真空環(huán)境下通過等離子體去除孔壁內(nèi)鉆污的原理。

昆山國華等離子清洗設(shè)備去鉆污凹蝕

等離子體去鉆污凹蝕是國外20世紀(jì)80年代才開始采用的技術(shù)。等離子體是電離的氣體，整體上顯電中性，是一種帶電粒子組成的電離狀態(tài)，稱為物質(zhì)第四態(tài)。應(yīng)用等離子去除剛撓板及撓性板孔壁的鉆污可看作是高度活化狀態(tài)的等離子氣體與孔壁高分子材料和玻璃纖維發(fā)生氣固化學(xué)反應(yīng)，同時生成的氣體產(chǎn)物和部分未發(fā)生反應(yīng)的粒子被抽氣泵排出，是一個動態(tài)的化學(xué)反應(yīng)平衡過程，等離子體氣體的生成條件為：①將一容器抽成真空（0.2-0.5Torr），并保持一定的真空度；②向真空容器中通入所選氣體，必須保持一定的真空度；③開啟射頻電源向真空器內(nèi)正負(fù)電極間施加高頻高壓電廠，氣體即在正負(fù)極間電離，放出輝光，形成等離子體，此時氣體不斷輸出，真空泵一直工作以使真空器內(nèi)保持一定真空器。由于等離子體處理需要設(shè)備以及電子級氣體，因此采用等離子體去鉆污凹蝕比較昂貴。